[發明專利]光學記錄媒體以及記錄材料

有效

• 申請號: 201210089493.1
• 申請日: 2012-03-27
• 公開（公告）號: CN103000198A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 王威翔;徐博凡;李維崇
• 申請（專利權）人: 錸德科技股份有限公司
• 主分類號: G11B7/2433
• 分類號: G11B7/2433;G11B7/2578;G11B7/2548
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種用于光學記錄媒體的記錄材料，其特征在于，該記錄材料的組成的化學式為Bi_xGe_yO_(1-x-y)，且該記錄材料的一光學性質因一激光照射而改變，其中該化學式的x及y分別表示鉍及鍺的原子數比，且滿足以下數學式：

2.8≤(x/y)≤25以及0.55≤(1-x-y)＜0.62。

2.根據權利要求1所述的用于光學記錄媒體的記錄材料，其特征在于，該記錄材料的消光系數為小于或等于0.3。

3.根據權利要求1所述的用于光學記錄媒體的記錄材料，其特征在于，該記錄材料的折射率為約2.5至約3。

4.根據權利要求1所述的用于光學記錄媒體的記錄材料，其特征在于，該化學式的x及y滿足以下數學式：0.2≤x≤0.4以及0.01≤y≤0.15。

5.一種光學記錄媒體，其特征在于，包含：

一基材；以及

一記錄層，配置于該基材上方，其中該記錄層的消光系數小于或等于0.3，且包含以化學式Bi_xGe_yO_(1-x-y)表示的一材料，其中x及y分別表示鉍及鍺的原子數比，且x及y滿足以下數學式：2.8≤(x/y)≤25以及0.55≤(1-x-y)＜0.62。

6.根據權利要求5所述的光學記錄媒體，其特征在于，還包含一介電層接觸該記錄層，其中該介電層的折射率為約2.0至約2.5，且該記錄層的折射率為約2.5至約3.0。

7.根據權利要求5所述的光學記錄媒體，其特征在于，x及y滿足以下數學式：0.2≤x≤0.4以及0.01≤y≤0.15。

8.一種光學記錄媒體，其特征在于，包含：

一基材；

一第一保護層，配置于該基材上；

一第二保護層，配置于該第一保護層上方；

一介電層，位于該第一及該第二保護層之間，且該介電層的折射率為約2.0至約2.5；以及

一記錄層接觸該介電層，且該記錄層的折射率為約2.5至約3.0，其中該記錄層包含以化學式Bi_xGe_yO_(1-x-y)表示的一材料，其中x及y分別表示鉍及鍺的原子數比，且x及y滿足以下數學式：2.8≤(x/y)≤25以及0.55≤(1-x-y)＜0.62。

9.根據權利要求8所述的光學記錄媒體，其特征在于，該第一及該第二保護層各自的折射率為約2.0至約2.7。

10.根據權利要求8所述的光學記錄媒體，其特征在于，該記錄層的折射率與該介電層的折射率的差異為約0.25至約0.55。

11.根據權利要求8所述的光學記錄媒體，其特征在于，至少一該第一及第二保護層包含至少一材料，是選自硫化鋅、二氧化硅、氧化鉻、二氧化鋯、二氧化鈦、五氧化二鈮、五氧化二鉭、氧化銦、氧化鋅、二氧化錫、二氧化鈰以及氧化鋁所組成的群組。

12.根據權利要求8所述的光學記錄媒體，其特征在于，該介電層包含一材料是選自硫化鋅、二氧化硅、氧化鉻、二氧化鋯、二氧化鈦、五氧化二鈮、五氧化二鉭、氧化銦、氧化鋅、二氧化錫、二氧化鈰以及氧化鋁所組成的群組。

13.根據權利要求8所述的光學記錄媒體，其特征在于，該介電層的厚度為約30nm至約40nm。

14.根據權利要求8所述的光學記錄媒體，其特征在于，該記錄層的厚度為約15nm至約30nm。