[發(fā)明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210089282.8
• 申請日: 2012-03-30
• 公開（公告）號: CN102729141A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 石井智;深田順平
• 申請（專利權(quán)）人: HOYA株式會社
• 主分類號: B24B37/08
• 分類號: B24B37/08;B24B37/26;B24B37/24;C09K3/14
• 代理公司: 北京天悅專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11311
• 代理人: 吳京順;任曉航

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁盤用玻璃基板的制造方法。

背景技術(shù)

如今，在個人計算機、DVD(Digital?Versatile?Disc)記錄裝置等，為了記錄數(shù)據(jù)內(nèi)置有硬盤裝置(HDD：Hard?Disk?Drive)。特別是，在筆記本電腦等以攜帶性為前提的設(shè)備所使用的硬盤裝置中，使用在玻璃基板設(shè)置磁性層的磁盤，用微微上浮于磁盤的面上的磁頭(DFH，Dynamic?Flying?Height：動態(tài)飛行高度)在磁性層進行磁記錄信息的記錄或讀取。在該磁盤的基板中，從與金屬基板等相比具有不易產(chǎn)生塑性變形的性質(zhì)考慮，適用玻璃基板。

另外，為滿足硬盤裝置的存儲容量增大的要求，人們正在謀求磁記錄的高密度化。例如，使用磁性層的磁化方向相對于基板的面垂直的方向的垂直磁記錄方式，進行磁記錄信息區(qū)域的微細化。因此，能夠使一張盤面基板的存儲容量增大。并且，為了存儲容量的進一步增大化，還盡量縮短磁頭從磁記錄面的上浮距離，由此進一步提高信息記錄再生精度(提高S/N比)。在這樣的磁盤的基板中，磁性層平坦地形成，以使磁性層的磁化方向朝向相對于基板面略垂直的方向。因此，所制造的磁盤的基板表面的粗糙度、微觀波紋度(下面統(tǒng)稱為“表面凹凸”)優(yōu)良。

專利文獻1中公開了以下的技術(shù)：磁盤用玻璃基板的制造工序包括：研削工序，對于加壓成形后成平板狀的玻璃基板的主表面進行通過固定磨粒的研削；主表面研磨工序，其目的是去除通過該研削工序殘留在主表面的傷痕、變形，在現(xiàn)有技術(shù)中，在上述主表面的研磨工序中作為研磨劑(游離磨粒)使用包含氧化鈰(二氧化鈰)磨粒的泥漿，并邊擠壓玻璃基板和研磨墊(研磨布)邊使其相對旋轉(zhuǎn)(使其滑動)的方式進行研磨。另外，在研磨墊上形成用于排出泥漿的格子形狀的槽。

根據(jù)作為研磨劑使用氧化鈰磨粒的方法，能夠以高研磨率去除殘留在磁盤用玻璃基板主表面的傷痕或變形，從而能夠高效率地完成磁盤用玻璃基板主表面的優(yōu)良的表面凹凸水平。

專利文獻1：特開2007-111852號公報

發(fā)明內(nèi)容

但是，近年來由于鈰的供應(yīng)緊張導(dǎo)致價格上漲，由此正研究著用其它材料來代替氧化鈰。氧化鈰對于玻璃表面的化學(xué)作用強，由此通過該化學(xué)作用使用氧化鈰來實現(xiàn)了高研磨率。雖然正研究著替代氧化鈰的研磨劑的替代材料，但大部分替代材料不像氧化鈰那樣對玻璃表面有很強的化學(xué)作用。例如，作為研磨劑，如果使用氧化鋯磨粒來替代氧化鈰，則在相同的條件下其研磨率低于使用氧化鈰的情況。

因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種不需要較大地依賴于研磨劑的化學(xué)研磨作用，能夠確保對于玻璃表面的高研磨率的磁盤用玻璃基板的制造方法。

發(fā)明人關(guān)注的是，在磁盤用玻璃基板制造中的研磨工序中，作為對于玻璃表面的研磨作用，存在研磨劑對玻璃表面的化學(xué)研磨作用和研磨墊對玻璃表面的物理研磨作用，并且不需要較大地依賴前者的化學(xué)研磨作用，通過提高后者的物理研磨作用來整體上確保高研磨率。

并且，發(fā)明人基于上述課題進行了認真的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)用帶槽的研磨墊對玻璃表面進行研磨時，不僅是通過相對于玻璃表面的滑動接觸面對玻璃表面進行研磨(通過滑動接觸面的研磨)，而且形成在研磨墊的滑動接觸部的邊緣也對玻璃表面的研磨做出貢獻(通過邊緣的研磨)，因此通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定帶槽的研磨墊的槽形狀，提高研磨墊對玻璃表面的物理研磨作用。

另外，即使使用像氧化鈰那樣化學(xué)研磨作用強的研磨劑時，通過提高研磨墊對玻璃表面的物理研磨作用，能夠進一步提高研磨率。

發(fā)明人基于上述見解提出的第一觀點的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括相對于玻璃基板主表面供給包含游離磨粒的研磨液的同時使研磨墊滑動接觸來進行研磨的工序，并且在研磨墊表面上設(shè)置有相對于玻璃基板主表面滑動接觸的滑動接觸部，和滑動接觸部之間形成的槽。并且，每一平方米的研磨墊表面上形成的滑動接觸部邊緣長度的合計值為200m以上，且作為相對于整個研磨墊表面區(qū)域的滑動接觸部區(qū)域的面積比率的填充率為80％以上。

在上述磁盤用玻璃基板的制造方法中，研磨墊的滑動接觸部可以是在研磨墊表面上由相同形狀的多個三角形區(qū)域組成。

在上述磁盤用玻璃基板的制造方法中，研磨墊的滑動接觸面優(yōu)選的是由發(fā)泡性聚氨酯樹脂形成。

在上述磁盤用玻璃基板的制造方法中，其特征在于，上述發(fā)泡性聚氨酯樹脂的發(fā)泡孔口徑為30～200μm。