[發明專利]液晶面板及其制造方法以及液晶顯示裝置

無效

• 申請號: 201210082602.7
• 申請日: 2012-03-26
• 公開（公告）號: CN102591048A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 林家強;侯鴻龍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1339;G02F1/1333
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 邢濤;田夏

1.一種液晶面板，包括上下對置的第一基板和第二基板、以及設置在所述第一基板和第二基板之間的間隔體；其中，所述間隔體包括第一間隔體及第二間隔體；其特征在于，所述第一間隔體的一端設置在第一基板上，所述第二基板上對應于所述第一間隔體的位置設置有凹槽，所述第一間隔體的另一端位于所述凹槽槽頂平面上方，所述第二間隔體的兩端分別設置在所述第一基板和第二基板上。

2.如權利要求1所述的一種液晶面板，其特征在于，所述第一間隔體及第二間隔體的高度相等。

3.如權利要求1或2所述的一種液晶面板，其特征在于，所述第二基板對應于所述第二間隔體的位置處設置有凸起，所述第二間隔體的下端設置在所述凸起上。

4.如權利要求1所述的一種液晶面板，其特征在于，所述凹槽是通過在第二基板上的一層或多層材料層上進行蝕刻形成的。

5.如權利要求4所述的一種液晶面板，其特征在于，所述凹槽是通過對第二基板上的絕緣層進行蝕刻形成。

6.如權利要求5所述的一種液晶面板，其特征在于，所述凹槽底部包括有金屬層，所述凹槽的底部的金屬層上還設置有抗蝕刻層。

7.如權利要求6所述的一種液晶面板，其特征在于，所述抗蝕刻層為ITO材料層。

8.如權利要求1所述的一種液晶面板，其特征在于，所述第一間隔體的下端為緩沖段，所述第一間隔體的上端為支撐段，所述緩沖段在受壓時沒入凹槽內，所述支撐段的截面大于所述凹槽的開口面。

9.一種權利要求1-8任一所述的液晶面板的制造方法，包括：

在液晶面板的第一基板上形成第一間隔體以及第二間隔體的步驟；

在液晶面板的第二基板上與所述第一間隔體對應的位置處形成凹槽的步驟。

10.如權利要求8所述的一種液晶面板的制造方法，其特征在于，所述步驟在液晶面板的第二基板上與所述第一間隔體對應的位置處形成凹槽還包括步驟：在基板上形成絕緣層，并在所述絕緣層上形成凹槽。

11.如權利要求9所述的一種液晶面板的制造方法，其特征在于，所述步驟在基板上形成絕緣層，并在所述絕緣層上形成凹槽中，在所述基板上形成絕緣層之前先在所述基板上形成ITO材料層。

12.一種液晶顯示裝置，包括如權利要求1-8任一所述的液晶面板。