[發明專利]光學膜粘貼結構及其制作方法有效
| 申請號： | 201210080654.0 | 申請日： | 2012-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN102642353A | 公開（公告）日： | 2012-08-22 |
| 發明（設計）人： | 謝鴻鈞;吳龍海;郭真寬 | 申請（專利權）人： | 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/04 | 分類號： | B32B27/04;B32B27/18;B32B7/14;B32B37/12 |
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| 地址： | 215121 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 粘貼 結構 及其 制作方法 | ||
1.一種光學膜粘貼結構，其特征在于包括：
基材；
粘著層，由粘著劑層于其鄰近基材的一側摻入粘著助劑而形成，未摻入粘著助劑的粘著劑層為第一粘著劑層，摻入有粘著助劑的粘著劑層為第二粘著劑層；以及
光學膜，該光學膜位于該粘著層對應于該基材的另一側，使得該粘著層位于該基材及該光學膜之間。
2.如權利要求1所述的光學膜粘貼結構，其特征在于該第一粘著劑層貼合于該光學膜，含粘著助劑的該第二粘著劑層貼合于該基材。
3.如權利要求2所述的光學膜粘貼結構，其特征在于該第一粘著劑層為含異氰酸酯及環氧樹脂的壓克力系粘著劑，該粘著助劑選自阻聚劑或增粘劑。
4.如權利要求1所述的光學膜粘貼結構，其特征在于該第一粘著劑層于25℃的儲存模數介于4x105Pa至9x105Pa之間。
5.如權利要求1所述的光學膜粘貼結構，其特征在于含粘著助劑的該第二粘著劑層于25℃的儲存模數介于1x104Pa至4x105Pa之間。
6.如權利要求1所述的光學膜粘貼結構，其特征在于該基材為離型膜、面板、偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。
7.如權利要求1所述的光學膜粘貼結構，其特征在于該光學膜為偏光板、抗反射膜、抗眩膜、硬鍍膜、增亮膜、擴散膜或補償膜。
8.一種光學膜粘貼結構的制作方法，其特征在于包括下列步驟：
涂布粘著劑于離型膜；
烘干該粘著劑，以形成粘著劑層；
涂布粘著助劑于基材，以形成粘著助劑層；
令涂布于該離型膜的該粘著劑層與涂布于該基材的該粘著助劑層彼此貼合，使該粘著助劑層經由轉印滲透至該粘著劑層鄰近該粘著助劑層的部分而形成含粘著助劑的第二粘著劑層，該粘著劑層未滲透粘著助劑的部分定義為第一粘著劑層；
分離該離型膜與該第一粘著劑層；以及
提供光學膜，令分離后的該第一粘著劑層與該光學膜彼此貼合，以構成光學膜粘貼結構。
9.如權利要求8所述的光學膜粘貼結構的制作方法，其特征在于該粘著劑層于25℃的儲存模數介于4x105Pa至9x105Pa之間。
10.如權利要求8所述的光學膜粘貼結構的制作方法，其特征在于含粘著助劑的該第二粘著劑層于25℃的儲存模數介于1x104Pa至4x105Pa之間。
11.如權利要求8所述的光學膜粘貼結構的制作方法，其特征在于該粘著劑層為含異氰酸酯及環氧樹脂的壓克力系粘著劑層，該粘著助劑選自阻聚劑或增粘劑。
12.如權利要求8所述的光學膜粘貼結構的制作方法，其特征在于該第一粘著劑層對于該離型膜的粘著力小于含粘著助劑的該第二粘著劑層對于該基材的粘著力。
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