[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210075761.4
• 申請日: 2012-03-19
• 公開（公告）號: CN102693929A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 村元僚
• 申請（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)屏制造株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677
• 代理公司: 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 董雅會;郭曉東

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具有：

第1基板搬運(yùn)機(jī)械手，具有用于保持基板的手部；

第2基板搬運(yùn)機(jī)械手，具有用于保持基板的手部；以及

手部清洗單元，配置于在所述第1基板搬運(yùn)機(jī)械手和第2基板搬運(yùn)機(jī)械手之間交接基板的基板交接位置的上方或者下方，能夠接受所述第1基板搬運(yùn)機(jī)械手以及所述第2基板搬運(yùn)機(jī)械手各自的手部的訪問，用于清洗所述第1基板搬運(yùn)機(jī)械手以及所述第2基板搬運(yùn)機(jī)械手各自的手部。

2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有基板保持單元，該基板保持單元配置在所述基板交接位置，用于保持基板。

3.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述手部清洗單元具有殼體，該殼體劃分出用于容置并處理手部的手部處理空間。

4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述殼體上形成有用于使手部進(jìn)出所述手部處理空間的手部進(jìn)出口。

5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述手部進(jìn)出口包括形成在相互不同的位置的第1手部進(jìn)出口以及第2手部進(jìn)出口。

6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述第1手部進(jìn)出口面向所述第1基板搬運(yùn)機(jī)械手，所述第2手部進(jìn)出口面向所述第2基板搬運(yùn)機(jī)械手。

7.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述殼體上僅形成有一個所述手部進(jìn)出口。

8.如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，所述手部清洗單元包括：

第1手部清洗單元，配置成使所述手部進(jìn)出口面向所述第1基板搬運(yùn)機(jī)械手；以及

第2手部清洗單元，配置成使所述手部進(jìn)出口面向所述第2基板搬運(yùn)機(jī)械手。

9.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有用于開閉所述手部進(jìn)出口的閘門機(jī)構(gòu)。

10.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述殼體上結(jié)合有用于排出所述手部處理空間內(nèi)的氣體的排氣路。

11.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述手部清洗單元具有清洗液供給單元，該清洗液供給單元對導(dǎo)入至所述手部處理空間內(nèi)的手部供給清洗液，

在所述殼體上結(jié)合有用于排出所述手部處理空間內(nèi)的液體的排液路。

12.如權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于，所述清洗液供給單元具有清洗液噴嘴，該清洗液噴嘴以與手部的基板接觸部相對應(yīng)的方式配置在所述手部處理空間內(nèi)。

13.如權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有干燥促進(jìn)劑供給單元，該干燥促進(jìn)劑供給單元用于對導(dǎo)入至所述手部處理空間內(nèi)的手部供給干燥促進(jìn)劑。

14.如權(quán)利要求1至13中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，所述手部清洗單元具有用于對手部照射紫外線的紫外線燈。