[發(fā)明專(zhuān)利]真空干燥裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210072031.9
• 申請(qǐng)日: 2012-03-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103307856A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李寧
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東莞新科技術(shù)研究開(kāi)發(fā)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): F26B7/00
• 分類(lèi)號(hào): F26B7/00;F26B5/04;F26B25/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專(zhuān)利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

1.一種真空干燥裝置，包括：

容置槽，用以容置待干燥物；

加熱裝置，用以使所述容置槽的溫度升高至預(yù)定溫度；以及

抽氣裝置，所述抽氣裝置與所述容置槽相連，以抽出所述容置槽中的部分或全部空氣，從而使所述待干燥物上的溶劑揮發(fā)。

2.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述加熱裝置包括若干加熱管以及與所述加熱管相連的熱水泵。

3.如權(quán)利要求2所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述加熱管設(shè)有進(jìn)水口和出水口，以實(shí)現(xiàn)循環(huán)。

4.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述加熱裝置設(shè)置于所述容置槽之中或外圍。

5.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述待干燥物上的溶劑包括去離子水，和/或H₂SO₄，和/或H₂O₂，和/或酒精，和/或異丙醇。

6.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述預(yù)定溫度的范圍為30℃～80℃。

7.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述容置槽包括蓋體以及密封墊，所述蓋體上設(shè)有氣體通道，所述抽氣裝置通過(guò)所述氣體通道與所述容置槽相連通。

8.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述容置槽內(nèi)的壓強(qiáng)范圍為0～25KPa。

9.如權(quán)利要求1所述的真空干燥裝置，其特征在于：所述待干燥物包括半導(dǎo)體晶片、芯片、磁頭或玻璃面。