[發(fā)明專利]偏光元件的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210071393.6 | 申請日: | 2012-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN102681076A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 熊井啟友 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 偏光 元件 制造 方法 | ||
1.一種偏光元件的制造方法,其特征在于,具有以下工序:
在玻璃基板上形成金屬的被膜的工序;
通過部分地除去所述被膜并且鹵化所述金屬,從而在所述玻璃基板上形成由所述金屬鹵化物構成的島狀膜的工序;
通過加熱拉伸所述玻璃基板而使所述島狀膜伸長,形成所述金屬鹵化物的針狀粒子的工序;和
通過還原所述針狀粒子的所述金屬鹵化物,從而形成由金屬構成的針狀金屬粒子的工序。
2.根據權利要求1所述的偏光元件的制造方法,其特征在于,形成由所述金屬鹵化物構成的所述島狀膜的工序,具有以下工序:
通過對所述被膜進行蝕刻處理來形成所述島狀膜的工序;和
通過使所述玻璃基板暴露于含有鹵素或鹵素化合物的氣體中而鹵化所述金屬的工序。
3.根據權利要求1所述的偏光元件的制造方法,其特征在于,形成由所述金屬鹵化物構成的所述島狀膜的工序,是通過使所述被膜暴露于含有鹵素或鹵素化合物的氣體的等離子體中,從而一邊部分地除去所述被膜,一邊鹵化所述金屬的工序。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的偏光元件的制造方法,其特征在于,所述金屬為選自Au、Ag、Cu、Cd、Al中的1種或者2種以上。
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