[發(fā)明專利]制作可撓式顯示裝置的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210063141.9
• 申請日: 2012-03-08
• 公開（公告）號: CN102593381A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王俊然;張家豪;楊志仁;張川修;葉嵐凱
• 申請（專利權(quán)）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;祁建國

1.一種制作可撓式顯示裝置的方法，包括：

提供一可撓式顯示面板，其中所述可撓式顯示面板具有一不平坦表面；

于所述可撓式顯示面板的不平坦表面形成至少一前驅(qū)物層；以及

進行一聚合制程，使所述前驅(qū)物層聚合成至少一填充層。

2.如權(quán)利要求1所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述前驅(qū)物層是利用真空熱蒸鍍制程或印刷制程形成于所述可撓式顯示面板的不平坦表面。

3.如權(quán)利要求1所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述前驅(qū)物層為壓克力基前驅(qū)物層或聚對二甲苯基前驅(qū)物層。

4.如權(quán)利要求1所述的制作可撓式顯示裝置的方法，另包括利用一粘著層，將一阻障層粘著于所述填充層上，其中所述填充層具有一平坦表面。

5.如權(quán)利要求1所述的制作可撓式顯示裝置的方法，另包括于所述可撓式顯示面板上形成至少一助著層。

6.如權(quán)利要求5所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層是利用物理氣相沉積制程、化學氣相沉積制程或原子層沉積制程加以形成。

7.如權(quán)利要求5所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層為一金屬層、一金屬氧化物層、一金屬氮化物層、一半導體氧化物層或一半導體氮化物層。

8.如權(quán)利要求5所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層形成于所述可撓式顯示面板與所述填充層之間。

9.如權(quán)利要求5所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層包括一第一助著層與一第二助著層，所述第一助著層形成于可撓式顯示面板與填充層之間以及所述第二助著層形成于填充層上。

10.如權(quán)利要求9所述的制作可撓式顯示裝置的方法，另包括利用一粘著層，將一阻障層粘著于所述第二助著層上，其中所述第二助著層具有一平坦表面。

11.如權(quán)利要求5所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層包括一第一助著層、一第二助著層與一第三助著層，所述填充層包括一第一填充層與一第二填充層，所述第一填充層是形成于第一助著層與第二助著層之間，所述第二填充層是形成于第二助著層與第三助著層之間，且所述方法另包括利用一粘著層，將一阻障層粘著于第三助著層上，其中所述第三助著層具有一平坦表面。

12.如權(quán)利要求11所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述可撓式顯示面板包括一基板與多個顯示元件設(shè)置于所述基板上，且所述不平坦表面是由所述顯示元件的表面與該基板的表面的落差所造成。

13.一種制作可撓式顯示裝置的方法，包括：

提供一可撓式顯示面板，其中所述可撓式顯示面板具有一不平坦表面；以及

于所述可撓式顯示面板的不平坦表面形成至少一填充層，其中所述填充層包括多個納米碳管、納米碳顆粒或納米碳線。

14.如權(quán)利要求13所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述填充層是利用一化學氣相沉積制程所形成。

15.如權(quán)利要求13所述的制作可撓式顯示裝置的方法，另包括利用一粘著層，將一阻障層粘著于所述填充層上，其中所述填充層具有一平坦表面。

16.如權(quán)利要求13所述的制作可撓式顯示裝置的方法，另包括于所述可撓式顯示面板上形成至少一助著層。

17.如權(quán)利要求16所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層為一金屬層、一金屬氧化物層、一金屬氮化物層、一半導體氧化物層或一半導體氮化物層。

18.如權(quán)利要求16所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層形成于可撓式顯示面板與填充層之間。

19.如權(quán)利要求16所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層包括一第一助著層與一第二助著層，所述第一助著層形成于可撓式顯示面板與填充層之間以及所述第二助著層形成于所述填充層上。

20.如權(quán)利要求19所述的制作可撓式顯示裝置的方法，另包括利用一粘著層，將一阻障層粘著于所述第二助著層上，其中所述第二助著層具有一平坦表面。

21.如權(quán)利要求16所述的制作可撓式顯示裝置的方法，其中所述助著層包括一第一助著層、一第二助著層與一第三助著層，所述填充層包括一第一填充層與一第二填充層，所述第一填充層是形成于第一助著層與第二助著層之間，所述第二填充層是形成于第二助著層與第三助著層之間，且所述方法另包括利用一粘著層，將一阻障層粘著于第三助著層上，其中所述第三助著層具有一平坦表面。