[發(fā)明專利]一種蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210056633.5 | 申請日: | 2012-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN102590019A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李詩標(biāo);張為勝;張晶;張梅雪;劉金磊 | 申請(專利權(quán))人: | 濟南康眾醫(yī)藥科技開發(fā)有限公司 |
| 主分類號: | G01N5/04 | 分類號: | G01N5/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 250014 山東省濟南市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 蒙脫石 及其 制劑 雜質(zhì) 測定 方法 | ||
1.一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:取蒙脫石或其制劑加水搖勻,加入弱堿性分散劑,超聲波分散,用離心機離心,取離心管底部沉淀物干燥、稱重,計算雜質(zhì)含量;取雜質(zhì)進行雜質(zhì)種類的鑒別。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:取藥用蒙脫石或其制劑加水搖勻,加入弱堿性分散劑,超聲波分散,用離心機離心,取離心管底部沉淀物加水搖勻,加入弱堿性分散劑,超聲波分散,用離心機離心,反復(fù)多次,直至上部液體澄清,離心管底部沉淀,水洗,干燥、稱重,計算雜質(zhì)含量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:取1-10g蒙脫石或其制劑,加4倍蒙脫石或其制劑重量的水,振搖,使其分散,加入20-100倍蒙脫石或其制劑重量的堿性分散劑水溶液,超聲處理5-20分鐘,轉(zhuǎn)移至離心管中,離心5-20分鐘,去除上部混懸液,加入20-100倍蒙脫石或其制劑重量的堿性分散劑水溶液,振搖,使沉淀分散均勻,離心,重復(fù)操作2-3次,至沉淀上部液體澄清,將沉淀用水轉(zhuǎn)移至已恒重的蒸發(fā)皿中,蒸干,干燥至恒重,計算雜質(zhì)的含量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:取藥用蒙脫石或其制劑先加水搖勻,加入弱堿性分散劑,超聲波分散,用離心機離心,取離心管底部沉淀,干燥、稱重,計算雜質(zhì)含量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:取藥用蒙脫石或其制劑先加水搖勻,加入弱堿性分散劑,超聲波分散,用離心機離心,取離心管底部沉淀,干燥、稱重,計算雜質(zhì)含量;雜質(zhì)作粉晶X射線衍射圖譜、根據(jù)X射線衍射的特征峰,判斷試樣中存在的礦物種類;用偏光顯微鏡法、相差顯微鏡法、掃描電鏡法或透射電鏡法中的一種方法確認雜質(zhì)的晶體形態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求5所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:取藥用蒙脫石或其制劑先加水搖勻,加入弱堿性分散劑,超聲波分散,用離心機離心,取離心管底部沉淀,干燥、稱重,計算雜質(zhì)含量;雜質(zhì)或作粉晶X射線衍射圖譜、根據(jù)X射線衍射的特征峰,判斷試樣中存在的礦物種類;或雜質(zhì)用偏光顯微鏡法、相差顯微鏡法、掃描電鏡法或透射電鏡法中的一種方法確認雜質(zhì)的晶體形態(tài)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2或權(quán)利要求3或權(quán)利要求4或權(quán)利要求5所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:離心機轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速根據(jù)離心機轉(zhuǎn)子半徑調(diào)整,離心機轉(zhuǎn)子半徑大,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速相應(yīng)小,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)子半徑小,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速相應(yīng)大,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速調(diào)至蒙脫石微粒懸浮,雜質(zhì)顆粒能沉降至離心管底部。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2或權(quán)利要求3或權(quán)利要求4或權(quán)利要求5所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:離心機轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速根據(jù)離心機轉(zhuǎn)子半徑調(diào)整,離心機轉(zhuǎn)子半徑大,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速相應(yīng)小,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)子半徑小,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速相應(yīng)大,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速調(diào)至通過離心機分離后的蒙脫石和雜質(zhì),經(jīng)X-?射線衍射圖譜分析,雜質(zhì)中不含蒙脫石特征峰,蒙脫石中不含雜質(zhì)峰。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2或權(quán)利要求3或權(quán)利要求4或權(quán)利要求5所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:使用XCYZ-13型電動離心機,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速400-1200轉(zhuǎn)/分。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2或權(quán)利要求3或權(quán)利要求4或權(quán)利要求5或權(quán)利要求7或權(quán)利要求8所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:使用不同轉(zhuǎn)子半徑的離心機,調(diào)整至與XCYZ-13電動離心機相同的離心加速度的轉(zhuǎn)速,可獲得同樣的效果。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2或權(quán)利要求3或權(quán)利要求4或權(quán)利要求5或權(quán)利要求6所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:分散劑包括并不限于碳酸氫鈉、碳酸鈉、焦磷酸鈉、六偏磷酸鈉、硼酸鈉、醋酸鈉、硫酸鈉、銨鹽、草酸銨等,其中使用硫酸鈉、銨鹽時,用堿性物調(diào)溶液至弱堿性。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求11所述的一種測定蒙脫石及其制劑雜質(zhì)的測定方法,其特征在于:分散劑先配成重量百分比濃度是0.1%-2%的水溶液,優(yōu)選0.2%-1%的水溶液,也可以直接加入堿性分散劑,加入量與使用堿性分散劑水溶液中所含的堿性分散劑量相當(dāng)。
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