[發明專利]圓筒狀射流態直接電沉積設備及使用其電積金屬的方法

在審

• 申請號: 201210053893.7
• 申請日: 2012-03-02
• 公開（公告）號: CN102560560A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 徐純理;邱建寧;趙路;李新華;楊斗
• 申請（專利權）人: 工信華鑫科技有限公司
• 主分類號: C25C7/00
• 分類號: C25C7/00;C25C7/02;C25C7/06
• 代理公司: 北京市盛峰律師事務所 11337
• 代理人: 趙建剛

1.一種圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：包括外層陰極管、內層陽極管、進料液管和出料口，所述外層陰極管套設在所述內層陽極管之外；所述內層陽極管的一端密封，另一端與所述進料液管密封連通；所述外層陰極管靠近所述進料液管的一端與同一端的內層陽極管之間密封連接，所述外層陰極管的另一端連通所述出料口；所述內層陽極管上開設有連通所述外層陰極管和所述內層陽極管的陽極管壁小孔。

2.根據權利要求1所述的圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：還包括電解液池和液體泵，所述進料液管通過所述液體泵連通到所述電解液池。

3.根據權利要求2所述的圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：所述液體泵為蠕動泵。

4.根據權利要求1所述的圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：所述外層陰極管和所述內層陽極管之間同圓心設置，所述外層陰極管的內壁和所述內層陽極管的外壁之間的距離為10mm-30mm，所述陽極管壁小孔的直徑為1mm-3mm；所述外層陰極管為不銹鋼材質，所述內層陽極管為鈦管鍍銠材質。

5.根據權利要求4所述的圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：所述外層陰極管的內壁和所述內層陽極管的外壁之間的距離為20mm。

6.根據權利要求1所述的圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：所述內層陽極管的一端由PVC材質密封，另一端與所述進料液管也由PVC材質密封連通；所述外層陰極管靠近所述進料液管的一端與同一端的內層陽極管之間也由PVC材質密封連接。

7.根據權利要求1所述的圓筒狀射流態直接電沉積設備，其特征在于：最上所述排陽極管壁小孔和最下排所述陽極管壁小孔之間的所述內層陽極管的長度構成電沉積筒有效長度，所述電沉積筒有效長度為0.8m-1.2m。

8.一種使用權利要求1至7任意之一種所述圓筒狀射流態直接電沉積設備電沉積金屬的方法，其特征在于，包括如下步驟：

第一步，將所述外層陰極管和所述內層陽極管分別電連接到電源負極和電源正極，接通電源；

第二步，含金屬離子溶液在所述液體泵的作用下，從所述內層陽極管的中間自下而上以一定的壓力和流量進入所述內層陽極管內；所述含金屬離子溶液從所述陽極管壁小孔中噴射到所述外層陰極管內壁的表面，破壞了陰極表面的濃差極化使金屬離子順利地沉積在陰極表面，并起到使所述含金屬離子溶液攪拌混合的作用，在所述外層陰極管內壁上電積形成單質高純度金屬。