[發明專利]一種抗輻射涂布膜的制備方法

無效

• 申請號: 201210049298.6
• 申請日: 2012-02-29
• 公開（公告）號: CN102675671A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 金國華
• 申請（專利權）人: 蘇州金海薄膜科技發展有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C09J7/02;C09J133/00;C09J171/00;C09J167/00
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

技術領域

本發明涉及一種抗輻射涂布膜的制備方法。?

背景技術

隨著電子科技的蓬勃發展，使得例如手機、MP4、MP5、相機、數碼攝影機、筆記本電腦等電子產品的推陳出新。為了避免電子產品屏幕表面受到刮傷或磨損，影響使用，另外能屏蔽電磁波和消除靜電，一般會在電子產品的屏幕表面貼上屏幕保護膜。?

屏幕保護膜的抗輻射層一般采用高溫濺射法、蒸鍍法或化學沉積法與PET基膜結合，然而濺射的方法制備工藝復雜，且濺射工藝需要在高溫條件下才能完成，導致設備和產品成本都很高；蒸鍍法雖然生產成本較高溫濺射法低，但其不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料，所以使用受到限制；化學沉積法對于基體表面上晶核的生產和長大速度不能控制，因此制備理想的、復雜組成的薄膜材料較為困難，產品性能不高。?

發明內容

發明目的：為了解決現有技術的不足，本發明提供了一種抗輻射涂布膜的制備方法，該方法工藝簡單，生產成本低廉，且采用該方法生產的產品質量性能優異。?

技術方案：為了實現以上目的，本發明所述的抗輻射涂布膜的制作方法具體步驟如下：將透明薄膜基片進行表面處理，在處理面上涂布復合膠層；向平均粒徑為15nm～300nm的混合納米粉體中加入分散劑經砂磨機砂磨分散成懸浮液；將所述的懸浮液涂布在透明薄膜基片的復合膠層面上，最后固化成膜即得抗輻射涂布膜。?

所述的固化成膜步驟為：將涂有所述混合納米粉體的透明薄膜基片放在60℃～120℃溫度下預熱1～2min后放置在紫外線固化裝置下固化1～30s。?

所述的固化成膜步驟為：將涂有所述混合納米粉體的透明薄膜基片放置在溫度為60℃～150℃的烘箱中1～2min。?

所述的混合納米粉體為納米金屬、納米氧化物、納米氮化物、納米碳化物、納米氟化物、納米硫化物、納米銻化物、納米曬化物、納米碲化物等納米材料中的任意一種或任意兩種以上無機化合物的組合。?

所述的將透明薄膜基片進行表面處理包括除塵、除靜電及電暈處理。?

所述的復合膠層為熱固化樹脂，所述的熱固化樹脂為丙烯酸熱固化樹脂、羥基丙烯酸樹脂、聚醇樹脂、脂肪族飽和聚酯樹脂中的一種。?

所述的懸浮液涂布方法為網紋輥涂布法。?

有益效果：本發明與現有技術相比具有以下優點：采用本方法生產抗輻射涂布膜，涂料化合物形成的涂層均勻、厚度可控性好且膜層間附著力更好，產品質量性能優異；本方法工藝簡單、效率高、成本較低，可實現工業化大規模生產。?

具體實施方式

下面結合具體實施例，進一步闡明本發明，應理解這些實施例僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍，在閱讀了本發明之后，本領域技術人員對本發明的各種等價形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。?

原料來源：?

納米氧化銦錫粉體：北京特保導電粉體材料發展中心?

的納米二氧化硅粉體：上海伊曼紡織化工有限公司?

納米氧化鋅粉體：漣水縣依順環保有限公司?

納米氟化鎂粉體：安徽巢東水泥股份有限公司?

納米銀粉體：安徽巢東水泥股份有限公司?

納米碲化鎘粉體：寧波化工原料公司?

納米鋁粉體：寧波市化工原料有限公司?

納米金粉體：寧波市化工原料有限公司?

納米四氧化三鐵粉體：北京特保導電粉體材料發展中心?

納米氮化鈦：上海伊曼紡織化工有限公司?

聚醇樹脂DH6060：丹陽市潤馳涂料有限公司?

羥基丙烯酸樹脂JM8157A：江陰三友化工有限公司?

丙烯酸熱固化樹脂JM1625A：江陰三友化工有限公司?

分散劑：高分子羧酸聚合物?聚羧酸鈉鹽HT-5040??寧波洪大進出口有限公司?

實施例1：?

通過專用光學薄膜涂布機將PET薄膜放卷張緊、除塵、除靜電并電暈處理后，在處理面上涂布復合膠層聚醇樹脂；向平均粒徑為40nm納米氧化銦錫粉體和平均粒徑為100nm的納米二氧化硅粉體的混合納米粉體中加入聚羧酸鈉鹽HT-5040經砂磨機砂磨分散成懸浮液；將該懸浮液采用網紋輥涂布法涂布在PET薄膜的復合膠層面上，最后將涂有所述混合納米粉體的PET薄膜放在60℃溫度下預熱1后放置在紫外線固化裝置下固化15s，即得抗輻射涂布膜。?

經測試，該膜的抗紫外線達99％；膜的中間部分未出現任何顆粒；經抗磨性測試，試樣前后的霧度差小于4％。?

實施例2：?