[發(fā)明專利]流體處理元件和組件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210043862.3
• 申請(qǐng)日: 2012-02-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102671459A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: V·Y·拉加德亞克沙;L·本施
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 帕爾公司
• 主分類號(hào): B01D35/06
• 分類號(hào): B01D35/06
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 張濤

1.一種能夠安裝在殼體中的流體處理元件，所述流體處理元件包括：

中空的流體處理包，所述流體處理包具有第一軸向端部和第二軸向端部，并且包括具有上游側(cè)和下游側(cè)的多孔流體處理介質(zhì)；

第一端蓋和第二端蓋，所述第一端蓋和第二端蓋分別安裝到所述流體處理包的所述第一端部和第二端部上，以引導(dǎo)流體從所述上游側(cè)通過(guò)所述多孔流體處理介質(zhì)到所述下游側(cè)，所述第一端蓋和第二端蓋中的至少一個(gè)具有背向所述流體處理包的外表面和面向所述流體處理包的內(nèi)表面；以及

彈簧偏置的電接觸裝置，所述彈簧偏置的電接觸裝置安裝到所述至少一個(gè)端蓋上，其中，所述彈簧偏置的電接觸裝置包括彈簧和活動(dòng)導(dǎo)電引腳，所述活動(dòng)導(dǎo)電引腳電聯(lián)接到所述流體處理包和所述端蓋中的至少一個(gè)上，其中，所述活動(dòng)導(dǎo)電引腳具有接觸表面，并且能夠在第一位置與第二位置之間移動(dòng)，其中在所述第一位置所述接觸表面更遠(yuǎn)離所述端蓋的所述外表面，在所述第二位置所述接觸表面更靠近所述端蓋的所述外表面，并且其中，所述彈簧布置為將所述導(dǎo)電引腳朝向所述第一位置偏置，以迫使所述接觸表面與殼體的導(dǎo)電部分電接觸，其中，所述彈簧偏置的電接觸裝置還包括外殼，所述外殼容置所述活動(dòng)導(dǎo)電引腳的至少一部分和所述彈簧。

2.如權(quán)利要求1所述的流體處理元件，其中，所述彈簧偏置的電接觸裝置還包括電連接到所述流體處理包和所述端蓋中的至少一個(gè)上的電導(dǎo)體，所述活動(dòng)導(dǎo)電引腳電聯(lián)接到所述電導(dǎo)體上。

3.如權(quán)利要求1或2所述的流體處理元件，其中，所述端蓋的所述外表面軸向地朝向，并且所述活動(dòng)引腳在所述第一位置與第二位置之間軸向移動(dòng)。

4.如權(quán)利要求1或2所述的流體處理元件，其中，所述端蓋的所述外表面徑向地朝向，并且所述活動(dòng)引腳在所述第一位置與第二位置之間徑向移動(dòng)。

5.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的流體處理元件，其中，所述導(dǎo)電引腳在所述外表面與所述內(nèi)表面之間延伸通過(guò)所述端蓋。

6.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的流體處理元件，其中，所述活動(dòng)導(dǎo)電引腳具有倒圓的接觸表面。

7.一種流體處理組件，所述流體處理組件包括殼體和權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的流體處理元件，其中，所述殼體具有流體入口和流體出口，并且在所述殼體內(nèi)限定介于所述入口與所述出口之間的流體流動(dòng)路徑，并且其中，所述流體處理元件橫過(guò)所述流體流動(dòng)路徑定位在所述殼體內(nèi)，并且其中，所述彈簧將所述活動(dòng)引腳的所述接觸表面偏置抵靠所述殼體的導(dǎo)電部分。

8.如權(quán)利要求7所述的流體處理組件，其中，所述殼體包括可移除的碗狀部，而所述彈簧將所述活動(dòng)引腳的所述接觸表面偏置抵靠所述碗狀部的金屬部分。

9.一種用于處理流體的流體處理元件，所述流體處理元件包括：

中空的流體處理包，所述流體處理包具有內(nèi)周緣、外周緣、第一軸向端部和第二軸向端部、以及多個(gè)軸向延伸的打褶部，每個(gè)打褶部具有折疊部分和從所述折疊部分在所述內(nèi)周緣與所述外周緣之間延伸的第一打褶腿和第二打褶腿，打褶的所述流體處理包包括打褶的多層復(fù)合部，所述多層復(fù)合部包括一層多孔流體處理介質(zhì)以及導(dǎo)電多孔金屬層，其中所述多孔流體處理介質(zhì)具有上游側(cè)和下游側(cè)，所述導(dǎo)電多孔金屬層位于所述多孔流體處理介質(zhì)的所述上游側(cè)和所述下游側(cè)中的一個(gè)上；

第一端蓋和第二端蓋，所述第一端蓋和第二端蓋分別安裝到所述流體處理包的所述第一端部和第二端部上，以引導(dǎo)流體從所述上游側(cè)通過(guò)所述多孔流體處理介質(zhì)到所述下游側(cè)，所述第一端蓋和第二端蓋中的至少一個(gè)具有背向所述流體處理包的外表面；以及

彈簧偏置的電接觸裝置，所述彈簧偏置的電接觸裝置安裝到所述至少一個(gè)端蓋上，并且包括電導(dǎo)體、彈簧以及活動(dòng)電接觸部，其中，所述電導(dǎo)體沿著所述第一打褶腿和第二打褶腿中的至少一個(gè)在所述流體處理包的打褶部?jī)?nèi)延伸，并且電聯(lián)接到所述多孔金屬層上，其中，所述活動(dòng)電接觸部延伸超出所述端蓋的所述外表面，并且能夠朝向和遠(yuǎn)離所述端蓋的所述外表面移動(dòng)，所述活動(dòng)電接觸部電聯(lián)接到所述電導(dǎo)體上，并且其中，所述彈簧將所述電接觸部偏置遠(yuǎn)離所述端蓋的所述外表面。

10.如權(quán)利要求9所述的流體處理元件，其中，所述至少一個(gè)端蓋的所述外表面軸向地朝向，并且所述電接觸部朝向和遠(yuǎn)離所述外表面軸向移動(dòng)。