[發明專利]光刻裝置及器件制造方法

有效

• 申請號: 201210036739.9
• 申請日: 2007-03-28
• 公開（公告）號: CN102566319A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: N·R·科珀;S·N·L·唐德斯;J·J·奧坦斯;J·C·范德霍文;E·C·卡迪克;S·舒勒波
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種光刻裝置，包括：

臺；

液體供給系統，配置用于向所述臺上的對象與投影系統(PL)之間的空間提供液體；和

位于所述臺中的排放裝置，配置用于去除液體；

其中所述排放裝置圍繞所述對象的周邊的至少一部分延伸，

所述排放裝置包括腔室、間隙和密封件，

其中所述間隙(15)布置成使得所述腔室(70)與在襯底臺(WT)上方的氣體環境流體連通，

其中所述密封件布置成將所述間隙至所述腔室(70)的入口密封，

其中所述密封件布置成由所述間隙(15)中的液體來打開。

2.根據權利要求1所述的光刻裝置，包括主動型液體去除裝置(180)，用于從所述腔室(70)去除液體。

3.根據權利要求2所述的光刻裝置，其中所述腔室(70)通過所述主動型液體去除裝置(180)保持在比周圍環境氣體壓力低的壓力。

4.根據權利要求1所述的光刻裝置，包括被動型液體去除裝置(180)，用于從所述腔室(70)去除液體。

5.根據權利要求4所述的光刻裝置，其中所述被動型液體去除裝置是毛細通道(80)。

6.根據權利要求5所述的光刻裝置，其中所述毛細通道(80)與所述液體的接觸角小于90°。

7.根據前述權利要求中任一項所述的光刻裝置，其中所述密封件被布置成通過所述液體的液壓來打開。

8.根據前述權利要求中任一項所述的光刻裝置，其中所述密封件被布置成通過液體的重量來打開。

9.根據前述權利要求中任一項所述的光刻裝置，其中所述密封件是柔性擋板(100)。

10.根據權利要求9所述的光刻裝置，其中所述柔性擋板(100)沿著所述間隙(15)的整個周邊延伸。

11.根據權利要求9或10的光刻裝置，其中所述擋板(100)被偏置，使得所述擋板(100)覆蓋所述間隙(15)的入口。

12.根據權利要求9-11中任一項所述的光刻裝置，其中所述擋板(100)在其最內邊緣或最外邊緣處連接至所述襯底臺(WT)。

13.根據前述權利要求中任一項所述的光刻裝置，其中所述對象是襯底(W)。

14.根據權利要求1-12中任一項所述的光刻裝置，其中所述對象是傳感器。

15.根據前述權利要求中任一項所述的光刻裝置，其中所述臺是保持襯底的襯底臺。

16.一種光刻裝置，包括：

臺；

液體供給系統，配置成向所述臺上的對象和投影系統(PL)之間的空間提供液體；和

在所述臺中的排放裝置，配置成去除液體，

所述排放裝置包括腔室、間隙和網狀件，

其中所述間隙(15)布置成使所述腔室(70)與所述襯底臺(WT)上方的氣體環境流體連通，

其中所述網狀件(220)設置在至所述腔室(70)的開口中。

17.根據權利要求16所述的光刻裝置，其中所述網狀件(220)圍繞所述間隙(15)延伸。

18.根據權利要求16或17所述的光刻裝置，其中所述網狀件(220)提供用于所述液體穿過的窄間隙。

19.根據權利要求16-18中任一項所述的光刻裝置，其中所述網狀件(220)設置在位于所述間隙(15)和所述腔室(70)之間的至所述腔室的開口中。