[發明專利]液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法

無效

• 申請號: 201210034184.4
• 申請日: 2012-02-15
• 公開（公告）號: CN102527660A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 林峽;林洪全;吳春進
• 申請（專利權）人: 上海鳴華化工科技有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B5/02
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 王潔;鄭暄

1.一種液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，使液態二氧化碳至少部分產生固氣相態變化后單獨作為清洗劑均勻穩定噴射在需清洗物件上或與壓縮氣體均勻穩定混合作為清洗劑噴射在需清洗物件上。

2.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，將液態二氧化碳降壓到5Bar從而使液態二氧化碳至少部分產生固氣相態變化。

3.根據權利要求2所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，所述液態二氧化碳在溫度為-20～0℃壓力為20～60Bar下輸送后降壓。

4.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，所述噴射的速度為320米/秒以上，所述噴射的流量為每分鐘0.2～1.0升液態二氧化碳或者為每分鐘0.2～1.0升液態二氧化碳和4立方壓縮氣體。

5.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，所述液態二氧化碳來自液態二氧化碳儲罐，所述液態二氧化碳的流量為0.2～1kg/min。

6.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，所述壓縮氣體來自壓縮氣體氣源，所述壓縮氣體的流量為3～5M³/min，所述壓縮氣體的壓力為0.5～0.7mpa。

7.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，使液態二氧化碳至少部分產生固氣相態變化后沿圓周均勻分布的若干孔道進入連接噴射通道的連接通道從而實現均勻穩定噴射在需清洗物件上。

8.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，使液態二氧化碳至少部分產生固氣相態變化后沿圓周均勻分布的若干孔道進入分別連接噴射通道和壓縮氣體氣源的壓縮氣體進口通道從而實現與壓縮氣體均勻穩定混合作為清洗劑噴射在需清洗物件上。

9.根據權利要求1所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，采用噴槍實現。

10.根據權利要求9所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，所述噴槍具有液體降壓區、連接通道和噴射通道，所述連接通道沿圓周均勻分布有若干孔道，所述液體降壓區環繞所述連接通道并通過所述孔道連通所述連接通道，所述連接通道管路連接所述噴射通道，所述液態二氧化碳經所述液體降壓區降壓使液態二氧化碳至少部分產生固氣相態變化后單獨作為清洗劑通過所述孔道經所述連接通道從所述噴射通道均勻穩定噴射在需清洗物件上。

11.根據權利要求9所述的液態二氧化碳單獨或與壓縮氣體混合作為清洗劑均勻穩定噴射的清洗方法，其特征在于，所述噴槍具有液體降壓區、壓縮氣體進口通道、液氣混合區和噴射通道，所述壓縮氣體進口通道通過所述液氣混合區管路連接所述噴射通道，所述壓縮氣體進口通道沿圓周均勻分布有若干孔道，所述液體降壓區環繞所述壓縮氣體進口通道并通過所述孔道連通所述壓縮氣體進口通道，從而所述液態二氧化碳經所述液體降壓區降壓使液態二氧化碳至少部分產生固氣相態變化后與通過所述壓縮氣體進口通道的壓縮氣體在所述液氣混合區均勻穩定混合作為清洗劑從所述噴射通道噴射在需清洗物件上。