[發(fā)明專利]激光加工方法及其所形成的加工件無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210030974.5 | 申請日: | 2012-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN103212785A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃永祥;楊舜涵;李玉麟 | 申請(專利權(quán))人: | 豪晶科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B23K26/00 | 分類號: | B23K26/00;G02F1/13357;G02B6/00 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市前*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光 加工 方法 及其 形成 工件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種激光加工方法及其所形成的加工件,特別是以一基板為加工件的激光加工方法及其所形成的加工件,加工后的該基板特別適用于背光模塊的導(dǎo)光板。
背景技術(shù)
近來平面顯示器逐漸普及化,其中液晶顯示器的背光模塊的尺寸大小也向大尺寸邁進,液晶顯示器的背光模塊可分成直下式與側(cè)光式。采用直下式的方式鋪設(shè)背光模塊的光源需要較多的發(fā)光組件而較耗電;采用側(cè)光式的方式鋪設(shè)背光模塊的光源只需從液晶顯示器的其中一側(cè)提供光線,因此,離光源較近與離光源較遠的亮度若沒有適當?shù)奶幚恚瑒t液晶顯示器的亮度會不均勻,特別所述不均勻是大尺寸面板所面臨的挑戰(zhàn)。側(cè)光式背光模塊的導(dǎo)光板的設(shè)計對于背光的輝度以及背光的均勻度有重要的影響,其中導(dǎo)光板上的網(wǎng)點的設(shè)計影響甚巨,好的設(shè)計則能夠提供較佳的背光的輝度與均勻度。
請參閱圖1a,其為現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示器的示意圖。現(xiàn)有液晶顯示器10包含一背光模塊11與一液晶面板12。該背光模塊11包含一光源110、一光源反射板111、一導(dǎo)光板112、一底部反射板113、以及一棱鏡薄層114。在圖1a中,光源110所發(fā)出的光線13,14在導(dǎo)光板112中以全反射來傳遞,直到分別碰到在導(dǎo)光板112上的網(wǎng)點1120以及1121時,通過網(wǎng)點1120,1121的光學(xué)性質(zhì)(例如凹透鏡的特性)將光線13,14折射,而可均勻散射到該棱鏡薄層114,該棱鏡薄層114會將散射后的光聚集,以加強背光的輝度。
在臺灣專利公告號1275878中,說明了蝕刻皺折網(wǎng)點的方法。請參閱圖1b,其為現(xiàn)有皺折網(wǎng)點的示意圖。首先,提供一金屬或壓克力材質(zhì)的基板21,然后提供一激光束至基板21上方,并重復(fù)照射基板21上的同一位置,以形成一皺折網(wǎng)點22,再通過移動激光束或移動基板,并利用激光束重復(fù)照射基板21,以依次在基板21的不同位置上均形成皺折網(wǎng)點22,而激光束可采用脈沖式激光,且激光束的波長選用依基板材質(zhì)而定。例如:當采用鋼材基板時,則可選用Nd-YAG激光。最后,將表面具有多個皺折網(wǎng)點22的基板21直接作為模仁20或再透過電鑄制程形成模仁,再利用注入透明材質(zhì)成形導(dǎo)光板,成形的方式可為射出成形、熱壓、或鑄造。在此現(xiàn)有技術(shù)中,各該皺折網(wǎng)點22的深度一致,對于要達成背光的高均勻性的目的而言,則需另外依賴皺折網(wǎng)點22在基板21上的疏密程度,然而即使離光源較近的皺折網(wǎng)點22排列較稀疏,且離光源較遠的皺折網(wǎng)點22排列較密,其亮度均勻的程度與輝度仍有很大的改善空間。
在臺灣專利公開號201116902中,說明了現(xiàn)有的激光加工系統(tǒng)30。如圖1c所示,現(xiàn)有激光加工系統(tǒng)30包括一激光加工裝置31與一基板32。該激光加工裝置31包括一平臺單元33、一光束掃描單元34、一激光模塊35、以及一控制單元36。在圖1c中,一加工單元37包括一激光模塊35與一定位單元38。該定位單元38包括一光束掃描單元34與一平臺單元33。
激光加工裝置31用以在基板32的至少兩位置點PS1、PS2分別形成至少兩網(wǎng)點321、322,該至少兩網(wǎng)點321、322可用以成型一導(dǎo)光板(未顯示)。該至少兩網(wǎng)點321、322分別具有至少兩深度DA1、DA2,為了使采用該導(dǎo)光板的一背光模塊(未顯示)發(fā)出均勻的整面光線,該至少兩深度DA1、DA2可不相等。
控制單元36分別根據(jù)該至少兩位置點PS1、PS2而設(shè)置至少兩加工參數(shù)B11、B12,且分別根據(jù)該至少兩加工參數(shù)B11、B12而提供至少兩激光束LU1、LU2來形成該至少兩網(wǎng)點321、322。該至少兩加工參數(shù)B11、B12的每一(如B11)包括一預(yù)定深度(如D11)與一激光能量參數(shù)(如U11),且該至少兩網(wǎng)點321、322的每一(如321)具有一深度(如DA1)。該兩加工參數(shù)B11、B12的兩預(yù)定深度D11、D12被設(shè)置成不相等而使該兩加工參數(shù)B11、B12的兩激光能量參數(shù)U11、U12被設(shè)置成不等效,且該兩加工參數(shù)B11、B12的該兩激光能量參數(shù)U11、U12被利用來使該兩網(wǎng)點321、322的兩深度DA1、DA2分別匹配于該兩加工參數(shù)B11、B12的該兩預(yù)定深度D11、D12。
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