[發明專利]清潔器頭

有效

• 申請號: 201210027353.1
• 申請日: 2012-02-08
• 公開（公告）號: CN102631170A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: J-P.M.艾爾斯
• 申請（專利權）人: 戴森技術有限公司
• 主分類號: A47L9/04
• 分類號: A47L9/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 葛青

1.一種用于清潔器具的清潔器頭，該清潔器頭包括：

可旋轉攪動器組件；

攪動器腔室，其容置攪動器組件；

底板，其限定向下指向的開口，被攪動器組件激起的碎屑通過該開口進入攪動器腔室，該開口具有前邊緣和后邊緣，底板具有從該開口的前邊緣向前延伸的前導區段和從該開口的后邊緣向后延伸的尾部區段；和

至少一個支撐構件，其位于底板的每個區段上，該支撐構件向下延伸超過底板，支撐構件具有小于5mm的厚度；

其中支撐構件的最下端位于第一平面中且該開口的邊緣位于第二平面中，該第二平面被相對于第一平面向上傾斜，且攪動器組件包括攪動器件，該攪動器件從該開口向外延伸超過第二平面但是未超過第一平面。

2.如權利要求1所述的清潔器頭，其中，底板能相對于攪動器腔室樞轉。

3.如權利要求2所述的清潔器頭，其中底板能繞基本上平行于開口的前邊緣的樞轉軸線相對于攪動器腔室樞轉。

4.如權利要求1所述的清潔器頭，其中第一平面和第二平面之間所夾的角度小于10°。

5.如權利要求1所述的清潔器頭，其中第一平面和第二平面之間的角度小于5°。

6.如權利要求1所述的清潔器頭，其中底板的所述區段中的一個的底面基本上位于第二平面內。

7.如權利要求1所述的清潔器頭，其中底板的所述區段中的一個的底面位于第二平面之下。

8.如權利要求7所述的清潔器頭，其中所述底面位于第三平面內，該第三平面與第二平面成角度。

9.如權利要求8所述的清潔器頭，其中第三平面沿開口的后邊緣與第二平面相交。

10.如權利要求8所述的清潔器頭，其中第二平面和第三平面之間所夾的角度小于5°。

11.如權利要求6至10中任一項所述的清潔器頭，其中所述區段中的所述一個包括從其底面向下延伸的柔性表面接合器件。

12.如權利要求11所述的清潔器頭，其中柔性表面接合器件鄰近開口的后邊緣。

13.如權利要求11所述的清潔器頭，其中柔性表面接合器件包括成排的鬃毛。

14.如權利要求6至10中任一項所述的清潔器頭，其中底板的所述區段中的另一個的底面大致相對于第二平面傾斜。

15.如權利要求14所述的清潔器頭，其中底板的所述區段中的所述另一個的底面被相對于第一平面向上傾斜。

16.如權利要求1至10中任一項所述的清潔器頭，其中攪動器件包括多個鬃毛、多個細絲和至少一個材料條帶中的一種。

17.如權利要求1至10中任一項所述的清潔器頭，其中攪動器組件包括附加攪動器件，該附加攪動器件從開口向外延伸超過第一平面和第二平面二者。

18.一種用于清潔器具的清潔器頭，該清潔器頭包括：

可旋轉攪動器組件；

攪動器腔室，其容置攪動器組件；

底板，其限定向下指向的開口，被攪動器組件激起的碎屑通過該開口進入攪動器腔室，該開口具有前邊緣和后邊緣，底板具有從該開口的前邊緣向前延伸的前導區段和從該開口的后邊緣向后延伸的尾部區段；和

至少一個支撐構件，其位于底板的每個區段上，該支撐構件向下延伸超過底板，支撐構件具有小于5mm的厚度；

其中支撐構件的最下端位于第一平面中且該開口的邊緣位于第二平面中，該第二平面被相對于第一平面向上傾斜，且攪動器組件包括第一攪動器件和第二攪動器件，該第一攪動器件從該開口向外延伸超過第一平面和第二平面二者，該第二攪動器件從開口向外延伸超過第二平面但是未超過第一平面。