[發明專利]用于引線鍵合的加熱塊無效
| 申請號: | 201210026486.7 | 申請日: | 2012-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN102569135A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 張成敬 | 申請(專利權)人: | 三星半導體(中國)研究開發有限公司;三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/60 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓明星;韓芳 |
| 地址: | 215021 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 引線 加熱 | ||
1.一種用于引線鍵合的加熱塊,將要被鍵合的芯片和引線框架放置在所述加熱塊上,其特征在于:所述加熱塊具有第一表面和圍繞所述第一表面且高于所述第一表面的第二表面,所述將要被鍵合的芯片位于所述第一表面上,所述引線框架位于所述第二表面上,其中,所述加熱塊設置有進氣口和與進氣口流體連通的氣體通道以及出氣口,使得保護氣體經所述進氣口通過所述氣體通道進入鍵合區域然后經所述出氣口排到所述加熱塊的外部。
2.根據權利要求1所述的用于引線鍵合的加熱塊,其特征在于所述氣體通道設置在所述加熱塊的內部并位于所述第二表面下方。
3.根據權利要求1所述的用于引線鍵合的加熱塊,其特征在于通過設置在所述加熱塊外部的氣體源提供所述保護氣體。
4.根據權利要求1所述的用于引線鍵合的加熱塊,其特征在于所述進氣口設置在所述加熱塊的側面。
5.根據權利要求1所述的用于引線鍵合的加熱塊,其特征在于所述進氣口設置在所述加熱塊的背面。
6.根據權利要求1所述的用于引線鍵合的加熱塊,其特征在于所述出氣口至少為兩個,并且對稱地布置在所述加熱塊的外圍。
7.根據權利要求1所述的用于引線鍵合的加熱塊,其特征在于所述保護氣體為氮氣或者氮氣和氫氣的混合氣。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





