[發明專利]一種大功率雙波長半導體矩形激光發生裝置

有效

• 申請號: 201210021246.8
• 申請日: 2012-01-10
• 公開（公告）號: CN102545033A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 王旭葆;陳中強
• 申請（專利權）人: 寧海縣盛源激光科技有限公司
• 主分類號: H01S5/024
• 分類號: H01S5/024;H01S5/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種大功率雙波長半導體矩形激光發生裝置，其特征在于：包括A堆棧(1)、A整形透鏡(11)、B堆棧(2)、B整形透鏡(21)、耦合鏡(3)、整形透鏡(4)、反射聚焦鏡(5)、進風口(6)、光閘(7)、屏蔽箱(8)，其中：所述的屏蔽箱(8)為金屬質的矩形中空有蓋封閉的箱體；屏蔽箱(8)設有進風口(6)，所述進風口(6)位于屏蔽箱(8)的底部，且與外設的凈化空氣裝置的風機輸出口連接；屏蔽箱(8)的一側壁上設有用于激光輸出的窗口稱為光閘口；

所述的A堆棧(1)為由半導體激光芯片陣列構成的激光發生元件；A堆棧(1)輸出的激光波長為940nm，輸出功率為2700W，截面為圓柱形；A堆棧(1)發射的激光的方向軸稱為A光軸；

所述的B堆棧(2)為由半導體激光芯片陣列構成的激光發生元件；B堆棧(2)輸出的激光波長為808nm，輸出功率為1800W，截面為圓柱形；B堆棧(2)發射的激光的方向軸稱為B光軸；

所述的A整形透鏡(11)為k9玻璃制成的柱面透鏡，且鍍有增透膜；A整形透鏡(11)對波長940nm激光透過率大于99.8％，A整形透鏡(11)的通光口徑為62.5×60mm的矩形；

所述的B整形透鏡(21)為k9玻璃制成的柱面透鏡，且鍍有增透膜；B整形透鏡(21)對波長808nm激光透過率大于99.9％，B整形透鏡(21)的通光口徑為62.5×60mm的矩形；

所述的耦合鏡(3)為k9玻璃制成的平面透鏡，耦合鏡(3)對波長940nm激光透過率大于98％，耦合鏡(3)對波長808nm激光45°入射角的反射率大于89％，耦合鏡(3)的通光口徑為60×100mm的矩形，耦合鏡(3)的厚度為3mm；

所述的整形透鏡(4)為k9玻璃制成的柱面透鏡，且鍍有波長940nm和波長808nm雙波長的增透膜；整形透鏡(4)對波長940nm和808nm激光透過率均大于98％，整形透鏡(4)的通光口徑為62.5×60mm的矩形；

所述的反射聚焦鏡(5)為無氧銅質的凹面反射鏡，鏡座設有水冷，鏡面對激光反射率大于80％；

所述的光閘(7)為由氣缸驅動開關光路的閥門裝置，光閘(7)由銅質的閥體與閥芯構成，光閘(7)的閥芯的光路通道為矩形，光閘(7)的閘體設有水冷；

A堆棧(1)、A整形透鏡(11)、B堆棧(2)、B整形透鏡(21)、耦合鏡(3)、整形透鏡(4)、反射聚焦鏡(5)置于屏蔽箱(8)的內部，俯視，按激光射線光路方向進行描述，所述A光軸的光路與所述B光軸的光路正交，A整形透鏡(11)位于A堆棧(1)的正前方，B整形透鏡(21)位于B堆棧(2)的正前方；耦合鏡(3)的左側表面位于A光軸的光路與B光軸的光路匯聚點處且與B光軸的光路夾45°角；沿A光軸的光路方向，整形透鏡(4)位于耦合鏡(3)的前方，反射聚焦鏡(5)位于整形透鏡(4)的前方；反射聚焦鏡(5)的凹面朝向整形透鏡(4)，反射聚焦鏡(5)的軸線與A光軸的光路夾45°角；光閘(7)位于反射聚焦鏡(5)的反射光軸光路的前方，所述反射光軸為沿A光軸光路入射的光經反射聚焦鏡(5)反射形成的與A光軸正交的射線光路方向軸；光閘(7)固定連接在屏蔽箱(8)的所述光閘口處。