[發(fā)明專利]一種利用化學(xué)腐蝕法制備微細(xì)光纖的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210015000.X | 申請日: | 2012-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN102565925A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邵天敏;劉佳琛;王惠;劉大猛;張少婧 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號: | G02B6/02 | 分類號: | G02B6/02 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 徐寧;關(guān)暢 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 化學(xué) 腐蝕 法制 微細(xì) 光纖 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種制備微細(xì)光纖的方法,特別是關(guān)于一種利用化學(xué)腐蝕法制備微細(xì)光纖的方法。
背景技術(shù)
微細(xì)光纖主要應(yīng)用于微納加工領(lǐng)域以及光波導(dǎo)傳輸領(lǐng)域,現(xiàn)有的微細(xì)光纖制備方法以機械拉伸法和化學(xué)腐蝕法為主,機械拉伸法利用光纖的熱熔性,應(yīng)用激光或紅外光對光纖中間一處進(jìn)行加熱,同時在兩端施加外力均勻緩慢拉伸,隨著拉伸的進(jìn)行,光纖在加熱點處逐漸變細(xì)直至被拉斷,可制造出應(yīng)用于掃描近場光學(xué)顯微鏡的錐形光纖探針,針尖曲率半徑在納米量級。但是機械拉伸法不能獲得具有一定長度且直徑均勻的光纖?,F(xiàn)階段最為普及使用的微細(xì)光纖制備方法是化學(xué)腐蝕法,化學(xué)腐蝕法的原理是利用氫氟酸與二氧化硅之間的化學(xué)反應(yīng)將光纖逐層腐蝕后得到微細(xì)光纖,具體的反應(yīng)公式為:SiO2(s)+4HF(aq)→SiF4(g)+2H2O。
目前,利用化學(xué)腐蝕法制備微細(xì)光纖仍是以制備光纖探針為主,將光纖纖芯置于氫氟酸溶液中,將置于液面下的光纖完全腐蝕,利用液面的毛細(xì)作用原理,實現(xiàn)在液面處制備具有一定錐度的錐形針尖,但是目前尚無制備具有一定長度且直徑均勻的微細(xì)光纖的方法。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題,本發(fā)明的目的是提供一種光纖直徑在微米量級,光纖表面光潔度好、光纖直徑在長度方向上均勻,且能夠縮短制備微細(xì)光纖的時間的利用化學(xué)腐蝕法制備微細(xì)光纖的方法。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取以下技術(shù)方案:一種利用化學(xué)腐蝕法制備微細(xì)光纖的方法,包括以下步驟:1)設(shè)置一包括有超聲波清洗機、放置有濃硫酸溶液的容器、放置有去離子水的容器和放置有氫氟酸溶液的容器的制備微細(xì)光纖的裝置,所述超聲波清洗機包括有清洗槽;2)對待處理的光纖的樹脂外包層進(jìn)行腐蝕,具體過程為:將放置有濃硫酸溶液的容器靜置于所述超聲波清洗機的清洗槽中,且將所述清洗槽中加入適量的水,水平面的高度低于所述容器的頂端,將待處理的光纖浸沒在所述濃硫酸溶液中,打開所述超聲波清洗機的開關(guān),將光纖在所述濃硫酸溶液中進(jìn)行腐蝕后,將去除樹脂外包層后的光纖取出;3)將所述去除樹脂外包層的光纖在去離子水中進(jìn)行浸泡,將光纖上殘留的濃硫酸溶液清洗掉后取出;4)將盛有氫氟酸溶液的容器靜置于超聲波清洗機的清洗槽中,將清洗槽中加入適量的水,水平面的高度要低于容器的頂端,將經(jīng)過去離子水清洗的光纖浸沒在氫氟酸溶液中,打開超聲清洗機的開關(guān),將光纖在氫氟酸溶液中腐蝕后取出;5)將經(jīng)所述氫氟酸溶液腐蝕后的光纖放置于去離子水中浸泡后取出。
所述光纖為單模光纖、多模光纖中的一種。
所述濃硫酸的濃度、氫氟酸溶液的濃度、濃硫酸的腐蝕時間和氫氟酸的腐蝕時間根據(jù)待處理光纖的長度、待處理光纖的直徑、制備光纖的長度和制備光纖的直徑確定。
所述濃硫酸溶液的濃度采用70%~98%,所述氫氟酸溶液的濃度采用20%~60%。
本發(fā)明由于采取以上技術(shù)方案,其具有以下優(yōu)點:1、本發(fā)明由于將光纖放置在氫氟酸溶液中,將盛有氫氟酸溶液的容器放置在超聲波清洗機的清洗槽中,且在化學(xué)腐蝕的同時加入超聲波,超聲波使得氫氟酸溶液產(chǎn)生機械振動,因此能夠加速光纖的腐蝕,有效縮短制備光纖的時間。2、本發(fā)明由于增加了超聲波的作用,使得氫氟酸溶液在操作過程中濃度更加均勻,與現(xiàn)有的無超聲波輔助的化學(xué)腐蝕制備光纖的方法相比,光纖表面得到均勻腐蝕,有效提高了制備的光纖的表面光潔度和直徑在長度方向上的均勻性,能夠避免所制備的光纖表面出現(xiàn)不平或部分區(qū)段內(nèi)部有氣泡或空穴的情況發(fā)生。本發(fā)明可以廣泛應(yīng)用于微細(xì)光纖的制備中。
附圖說明
圖1是采用本發(fā)明制備的光纖在掃描電子顯微鏡下的效果示意圖;
圖2是采用現(xiàn)有的化學(xué)腐蝕方法制備的光纖掃描電子顯微鏡下的效果示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述。
本發(fā)明利用化學(xué)腐蝕法制備微細(xì)光纖的方法,包括以下步驟:
1)本發(fā)明的制備微細(xì)光纖的裝置包括有一超聲波清洗機、一放置有濃硫酸的容器、一放置有去離子水的容器和一放置有氫氟酸溶液的容器。
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