[發明專利]陶瓷漿料的生產工藝及生產線

有效

• 申請號: 201210012444.8
• 申請日: 2012-01-16
• 公開（公告）號: CN102527475A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 黃建平;滿麗珠;林育成;葉佐輝
• 申請（專利權）人: 黃建平
• 主分類號: B02C17/10
• 分類號: B02C17/10;B02C17/18;B02C17/20
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 滿群

技術領域

本發明涉及一種陶瓷漿料的生產工藝及生產線。?

背景技術

CN200720063977.3公告了一種“連續式陶瓷球磨機”,它的目的是提供一種結構簡單,占地面積少,且能耗降低,使用壽命延長，生產效率高，能自動連續研磨和出漿的連續式陶瓷球磨機。該技術方案是:?包括筒體,其筒體固定于軸承座上且兩端分別與傳動裝置連接,筒體內腔設有橡膠內襯和數個隔倉,隔倉之間設有隔倉板;將筒體固定于軸承座上且兩端分別與傳動裝置連接,并于筒體內設橡膠內襯和數個隔倉。其不足之處是:該球磨機較現有常用球磨機相比，雖能實現連續生產，但數組驅動裝置與各工作腔匹配串接,?屬于一個串聯式的球磨機，其多級驅動，多筒體固定及多個入、出料裝置，忽視了配方料成漿后，其流動性帶來的輸送便利。?

發明內容

本發明的目的是提供一種根據陶瓷漿料在研磨過程顆粒細度的變化，分級配置不同規格的研磨體，提高研磨效率又節能降耗的陶瓷漿料生產工藝。本發明的另一目的是提供一種專門針對標準粗漿加工的連續式球磨機，對漿料進行二級細磨，以代替常規間歇式球磨機一次加工成品漿。連續式球磨機為兩段式設計，為漿料的研磨更加有針對性的配置符合研磨顆粒變化規律的研磨球石，以適用于陶瓷漿料生產工藝的生產線。?

本發明的技術解決方案是所述陶瓷漿料的生產工藝，其特殊之處在于，包括以下步驟：?

⑴配料，由間歇式球磨機進行一級球磨加工，制備成可供流動輸送的粗漿料；

⑵粗漿儲存、攪拌，輸送至穩壓罐；

⑶將粗漿料輸送至兩段式球磨機內進行二級球磨加工,并由兩段式球磨機連續出漿制備成品漿料。

作為優選：所述球磨機筒體內填充的研磨球石的配比分別為：?

一級球磨：Φ80㎜占80%、Φ40㎜占20%：

二級球磨：前腔：Φ40㎜占80%、Φ20㎜占20%；

后腔：Φ40㎜為20%、Φ20㎜為80%。

作為優選：所述步驟⑶制備成品漿料，其成品漿料的性能參數控制方法：?

⑴取樣：漿料的性能檢測在出漿口或在成品漿池中取樣；

⑵細度控制：通過截流閥對二級球磨加工漿料的輸入量進行調節，增加漿料輸入量，即減少了漿料在球磨機內的研磨時間，細度降低；反之減少漿料輸入量，即增加了漿料在球磨機內的研磨時間，細度提高；?

⑶水分控制：對入一級球磨加工的水分進行計量，根據泥漿性能要求控制水分在28%～35%之間；

⑷顆粒分布：通過調整連續式球磨機中的球石規格配比，控制成品漿料的顆粒分布，小規格球石越多，同在＜40μ的細度下，漿料的細顆粒分布越多。

本發明的另一技術解決方案是所述陶瓷漿料的生產線，包括喂料機、間歇式球磨機、兩段式球磨機、漿池，其特殊之處在于：所述間歇式球磨機的入料口與喂料機的出料口之間通過驅動裝置驅動的輸送帶連接，進入間歇式球磨機中的配料由電機驅動的傳動機構帶動間歇式球磨機的筒體運轉，對球磨機內的配料進行一級球磨加工制備粗漿；間歇式球磨機的出料口通過輸漿管將粗漿料輸送到粗漿池儲存并攪拌，通過與所述粗漿池連通的輸漿管、由柱塞泵將粗漿輸送到穩壓罐，并由控制流量的截流閥、輸漿管將粗漿輸送到兩段式球磨機中；所述兩段式球磨機由電機驅動的傳動機構帶動筒體運轉，對粗漿料進行二級球磨加工；經兩段式球磨機的出漿口溢流出漿，進成品漿池儲存。?

作為優選：所述粗漿池與穩壓罐之間設有中轉漿池；中轉漿池的進漿經輸漿管、抽漿泵與粗漿池連通；中轉漿池的出漿經柱塞泵、輸漿管與穩壓罐連通。?

作為優選：所述穩壓罐包括底部一體延伸的錐形體，該錐形體端部連通的輸漿管；所述截流閥設置在錐形體下部的輸漿管上。?

作為優選：所述兩段式球磨機的兩端軸承及筒體中間鋼板隔斷的中心位置分別設進漿孔、溢流孔和出漿孔，三孔同心；筒體兩腔筒壁的中間位置分別設有球磨砌筑人孔，兼研磨球石加入孔。?

作為優選：所述兩段式球磨機筒體內砌筑氧化鋁陶瓷襯磚，填充研磨球石的材質是氧化鋁陶瓷球；球石填充容積小于筒體中心位置，以運轉時不隨漿料流出為準。?

與現有技術相比，本發明的優點：?

1、該加工工藝的優點是：根據陶瓷配料制漿過程漿料的顆粒粗細變化，選擇配置不同規格的研磨體，提高了研磨效率，又節能降耗。

2、在加工設備方面：以專門針對標準粗漿加工的連續式球磨機，對漿料進行二級細磨，代替常規間歇式球磨機一次加工成品漿；連續式球磨機為兩段式設計，為漿料的研磨，更加有針對性的配置符合研磨顆粒變化規律的研磨球石。?