[發(fā)明專利]提高掩模板開口位置精度的方法及其裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210011030.3 | 申請日: | 2012-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN103205703A | 公開(公告)日: | 2013-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏志凌;高小平;鄭慶靚;孫倩 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 提高 模板 開口 位置 精度 方法 及其 裝置 | ||
1.一種提高掩模板開口位置精度的方法,其特征在于,具體步驟包括:將掩模板固定在具有固定作用的基臺上;通過CCD掃描掩模板,讀取位于掩模板邊緣處并處于對角方向的兩個定位孔的相對坐標(biāo)(x、y);通過坐標(biāo)(x、y)確定掩模板中心點o,并將其坐標(biāo)設(shè)定為(0、0),自動生成x、y坐標(biāo)軸;通過CCD掃描掩模板圖形區(qū)域開口,讀取各開口中心點相對于掩模板中心點的坐標(biāo)(xn、yn);將坐標(biāo)(xn、yn)與蒸鍍圖形像素對比,若坐標(biāo)值偏差超出±5μm,在基臺的固定裝置上施加水平方面上的拉力,使開口的位置偏差控制在±5μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高掩模板開口位置精度的方法,其特征在于,將所述掩模板固定在基臺的固定裝置上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提高掩模板開口位置精度的方法,其特征在于,與所述固定裝置一體形成的拉動裝置,通過拉動動力源帶動彈性元件施加拉力,帶動拉動裝置沿著軌道產(chǎn)生微米級的位移。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的提高掩模板開口位置精度的方法,其特征在于,拉力的方向為x軸方向、y軸方向、與x軸夾角為45°方向或與x軸夾角為135°方向的任意組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的提高掩模板開口位置精度的方法,其特征在于,固定裝置為掛齒,拉動裝置為拉板,拉動動力源為電機(jī)。
6.一種提高掩模板開口位置精度的裝置,其特征在于,包括:基臺、拉動裝置、彈性元件、固定裝置和拉動動力源;其中,固定裝置和拉動裝置一體形成在基臺上,將掩模板固定在固定裝置上,拉動動力源提供拉動動力,通過彈性元件的力的傳導(dǎo),帶動拉動裝置沿著軌道產(chǎn)生微米級的位移。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的提高掩模板開口位置精度的裝置,其特征在于,固定裝置為掛齒,拉動裝置為拉板,拉動動力源為電機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的提高掩模板開口位置精度的裝置,其特征在于,所述拉板個數(shù)至少為8個,分別位于掩模板四邊及四角。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的提高掩模板開口位置精度的裝置,其特征在于,所述拉板在掩模板一邊的個數(shù)為3個。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





