[發明專利]四種鎳配位聚合物的制備方法及其應用

有效

• 申請號: 201210006967.1
• 申請日: 2012-01-11
• 公開（公告）號: CN102603807A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: 卜顯和;張大帥;常澤;呂迎彬;陳強;田丹;軒志宏;胡同亮
• 申請（專利權）人: 南開大學
• 主分類號: C07F15/04
• 分類號: C07F15/04;B01J20/22;B01J20/30;B01D53/02
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1.四種微孔鎳配位聚合物，其特征在于它是下述化學式的化合物：C₁₃H₉N₃Ni_0.5O_2.50(1)，C₁₃H_9.50N_3.50Ni_0.50O_2.50(2)，C₁₃H₈N_3.50Ni_0.50O_3.50(3)，C₁₃H₇F₂N₃Ni_0.50O_2.50(4)。其中主配體為2，4，6-三(4-吡啶基)三嗪(tpt)，輔助配體分別為鄰苯二甲酸(H₂L)、4-氨基鄰苯二甲酸(A-H₂L)、4-硝基鄰苯二甲酸(N-H₂L)、四氟鄰苯二甲酸(F-H₂L)，溶劑為：N，N-二甲基甲酰胺(DMF)、乙醇；主要紅外吸收峰為3127cm^-1，1665cm^-1，1519cm^-1，1400cm^-1，1090cm^-1，1050cm^-1，953cm^-1，811cm^-1，654cm^-1；配位骨架分解溫度為300℃。

2.權利要求1所述的微孔鎳配位聚合物1-4晶體均屬于六方晶系，空間群均為P?3221，晶胞參數分別為：?α＝β＝90°，γ＝120°；?α＝β＝90°，γ＝120°；?α＝β＝90°，γ＝120°；?α＝β＝90°，γ＝120°；

3.權利要求1所述的微孔鎳配位聚合物，其特征在于其結構是：配體tpt與金屬離子鎳形成兩種螺旋鏈，以及配體H₂L形成一種螺旋鏈連接形成三維微孔結構；孔道中填充有溶劑DMF；整體結構為3，5連接的網絡拓撲結構。

4.權利要求1所述的微孔鎳配位聚合物，其特征在于配位聚合物的孔隙率較大，脫掉溶解分子后均在60％以上。

5.權利要求1所述的配位聚合物的制備方法，其特征在于它包括下述步驟：將有機配體tpt，H₂L，和硝酸鎳加入到DMF和乙醇溶劑中，將所得混合物通過溶劑熱反應得到塊狀綠色晶體，然后用DMF洗滌，干燥。

6.按照權利要求5所述微孔鎳配位聚合物材料的制備方法，其特征在于所述的tpt和H₂L摩爾比為1∶1～1∶2。

7.按照權利要求6所述微孔鎳配位聚合物材料的制備方法，其特征在于所述的tpt與硝酸鎳的摩爾比為1∶1～1∶2。

8.按照權利要求6所述微孔鎳配位聚合物材料的制備方法，其特征在于所述熱反應的溶劑熱條件為在80～120℃下反應3天，自然冷卻至室溫。

9.一種權利要求1所述配位聚合物的應用，其特征在于聚合物具有良好的氣體吸附和選擇性吸附的性質，可應用于氣體的存儲和分離的材料科學領域。?