[發明專利]高響應靈敏度懸臂梁結構及其制作方法

無效

• 申請號: 201210002721.7
• 申請日: 2012-01-06
• 公開（公告）號: CN103193191A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 劉瑞文;焦斌斌;李志剛;孔延梅;盧狄克;陳大鵬
• 申請（專利權）人: 昆山光微電子有限公司
• 主分類號: B81B7/00
• 分類號: B81B7/00;B81C1/00
• 代理公司: 昆山四方專利事務所 32212
• 代理人: 盛建德

1.一種高響應靈敏度懸臂梁結構，包括非金屬層(1)和金屬層(2)，所述金屬層位于所述非金屬層上側面上，其特征在于：所述金屬層和非金屬層形成的懸臂梁呈規律的褶皺狀。

2.根據權利要求1所述的高響應靈敏度懸臂梁結構，其特征在于：所述金屬層為鋁層、金層、鉻層和鎳層之一。

3.根據權利要求1所述的高響應靈敏度懸臂梁結構，其特征在于：所述非金屬層為多晶硅層、氮化硅層和氧化硅層之

4.根據權利要求1所述的高響應靈敏度懸臂梁結構，其特征在于：所述懸臂梁為直角式褶皺懸臂梁，該直角式褶皺懸臂梁的每個褶皺均為上凸的矩形狀褶皺。

5.根據權利要求1所述的高響應靈敏度懸臂梁結構，其特征在于：所述懸臂梁為直角式褶皺懸臂梁，該直角式褶皺懸臂梁的每個褶皺均為下凹的矩形狀褶皺。

6.根據權利要求1所述的高響應靈敏度懸臂梁結構，其特征在于：所述懸臂梁為斜角式褶皺懸臂梁，該斜角式褶皺懸臂梁的每個褶皺均為上凸的半橢圓狀褶皺。

7.根據權利要求1所述的高響應靈敏度懸臂梁結構，其特征在于：所述懸臂梁為斜角式褶皺懸臂梁，該斜角式褶皺懸臂梁的每個褶皺均為下凹的半橢圓狀褶皺。

8.一種如權利要求1至7中任一項所述的高響應靈敏度懸臂梁結構的制作方法，其特征在于包括以下步驟：

①首先準備一塊硅襯底(3)材料，在該襯底的上側面上淀積一層掩蔽層(4)，然后刻蝕該掩蔽層使部分襯底材料露出，并形成規律的圖形；

②對圖形化的上述部分露出的襯底進行各向異性刻蝕，刻蝕出需要深度和形狀的圖形；

③去掉上述掩蔽層，在襯底上側面上淀積一層非金屬材料層，形成懸臂梁結構的非金屬層(1)；

④在上述非金屬層上刻蝕一金屬材料層，形成懸臂梁的金屬層(2)；

⑤腐蝕上述非金屬層下的襯底，釋放懸臂梁結構即完成整個懸臂梁結構的制作。

9.根據權利要求8所述的高響應靈敏度懸臂梁結構的制作方法，其特征在于：所述襯底材料為多晶硅、非晶硅和氧化硅之一。

10.根據權利要求8所述的高響應靈敏度懸臂梁結構的制作方法，其特征在于：所述掩蔽層的材料為光刻膠、氧化硅、氮化硅和鋁之一。