[發明專利]一種反應等離子噴涂制備碳化硼涂層的方法有效
| 申請號： | 201210002114.0 | 申請日： | 2012-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN103194716A | 公開（公告）日： | 2013-07-10 |
| 發明（設計）人： | 王文東;閆坤坤;黃春;劉邦武;夏洋 | 申請（專利權）人： | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號： | C23C4/12 | 分類號： | C23C4/12;C23C4/10 |
| 代理公司： | 北京市德權律師事務所 11302 | 代理人： | 劉麗君 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反應 等離子 噴涂 制備 碳化 涂層 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種反應等離子噴涂制備碳化硼涂層的方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟(1)，選取碳化硼粉，并將碳化硼粉送入等離子體噴涂設備；
步驟(2)，對被噴涂的基材表面進行預處理；
步驟(3)，選取Ar和CH4為噴涂氣體，通過所述等離子體噴涂設備在所述基材表面進行等離子噴涂，制備出碳化硼涂層。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述碳化硼粉末的粒度為5-40μm。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中對被噴涂的基材表面進行預處理，具體包括如下步驟：對被噴涂的基材表面進行噴砂處理，并用丙酮清洗。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述噴砂處理采用的噴砂材料為白剛玉，噴砂粒度為50-100μm。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述Ar流量40-90L/min、所述CH4流量5-20L/min。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述等離子噴涂設備的電弧電壓40-50V，電弧電流800-900A，送粉速度15-100g/min，噴涂距離80-135mm，送粉角度50°-90°。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
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C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
