[其他]用于檢測流體樣品中的分析物的分析設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201190000901.0
• 申請日: 2011-11-24
• 公開（公告）號: CN203479805U
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發(fā)明（設計）人: 巴比爾·拉伊;沙伊·伊彭;伊恩·斯克林杰
• 申請（專利權）人: 瑞士斯保德精密診斷有限公司
• 主分類號: G01N33/543
• 分類號: G01N33/543;G01N33/558
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理事務所(普通合伙) 11270
• 代理人: 張穎玲;孟桂超

1.一種用于檢測流體樣品中的分析物的分析設備，包括樣品接收構件(1)，所述樣品接收構件(1)流體連接到限定分析流動路徑的一個或多個組件(2，3)上，所述一個或多個組件(2，3)中的至少一個是包括分析物檢測區(qū)(31)的檢測構件(3)，所述分析流動路徑可選地包括對照區(qū)；?

其中，所述設備進一步包括樣品吸收構件(5)，所述樣品吸收構件(5)不形成所述分析流動路徑的部分，并且所述樣品吸收構件(5)不完全位于所述分析物檢測區(qū)(31)和／或所述對照區(qū)的下游，所述對照區(qū)如果存在的話。?

2.如權利要求1所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)大體上位于所述樣品接收構件(1)的下游。?

3.如權利要求1或2所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)完全位于所述樣品接收構件(1)的下游和／或所述分析物檢測區(qū)(31)的上游。?

4.如權利要求1或2所述的分析設備，其中，所述樣品接收構件(1)是吸收芯。?

5.如權利要求3所述的分析設備，其中，所述樣品接收構件(1)是吸收芯。?

6.如權利要求1、2或5所述的分析設備，其中，限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)包括多孔材料或多個流體連接的多孔材料。?

7.如權利要求3所述的分析設備，其中，限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)包括多孔材料或多個流體連接的多孔材料。?

8.如權利要求4所述的分析設備，其中，限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)包括多孔材料或多個流體連接的多孔材料。?

9.如權利要求6所述的分析設備，其中，所述分析物檢測區(qū)(31)包含一個或多個固定的分析試劑(31)，并且限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)在分析試劑區(qū)(21)承載一個或多個可移動的分析試劑，所述分析試劑區(qū)(21)在所述分析物檢測區(qū)(31)的上游。?

10.如權利要求7或8所述的分析設備，其中，所述分析物檢測區(qū)(31)包含一個或多個固定的分析試劑(31)，并且限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)在分析試劑區(qū)(21)承載一個或多個可移動的分析試劑，所述分析試劑區(qū)(21)在所述分析物檢測區(qū)(31)的上游。?

11.如權利要求9所述的分析設備，其中，所述可移動的分析試劑(21)由第一多孔材料(2)支撐，并且所述固定的分析試劑(31)由流體連接的第二多孔材料(3)支撐。?

12.如權利要求10所述的分析設備，其中，所述可移動的分析試劑(21)由第一多孔材料(2)支撐，并且所述固定的分析試劑(31)由流體連接的第二多孔材料(3)支撐。?

13.如權利要求9所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)的至少一部分不位于所述分析試劑區(qū)(21)的下游。?

14.如權利要求10所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)的至少一部分不位于所述分析試劑區(qū)(21)的下游。?

15.如權利要求11所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)的至少一部分不位于所述分析試劑區(qū)(21)的下游。?

16.如權利要求12所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)的至少一部分不位于所述分析試劑區(qū)(21)的下游。?

17.如權利要求1、2、5、7-9、13和14中任一項所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)直接與限定所述分析流動路徑的一個或多個所述組件(2，3)接觸，并且所述樣品吸收構件(5)能夠吸收沿著限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)的表面流動的樣品。?

18.如權利要求3所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)直接與限定所述分析流動路徑的一個或多個所述組件(2，3)接觸，并且所述樣品吸收構件(5)能夠吸收沿著限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)的表面流動的樣品。?

19.如權利要求4所述的分析設備，其中，所述樣品吸收構件(5)直接?與限定所述分析流動路徑的一個或多個所述組件(2，3)接觸，并且所述樣品吸收構件(5)能夠吸收沿著限定所述分析流動路徑的所述組件(2，3)的表面流動的樣品。?