[實用新型]帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統

有效

• 申請號: 201120446999.4
• 申請日: 2011-11-11
• 公開（公告）號: CN202322997U
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 馮彬;郭東民;佟輝;周景玉;劉麗華;張雪;戚暉
• 申請（專利權）人: 中國科學院沈陽科學儀器研制中心有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

1.一種帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統，其特征在于：包括磁控室(1)、單冷卻自轉盤(3)、第一電機(4)、手動基片擋板組件(5)、磁控靶(6)、機臺架(7)及真空抽氣系統，其中磁控室(1)安裝在機臺架(7)上、與位于機臺架(7)內的真空抽氣系統相連，在磁控室(1)內均布有多個安裝在磁控室(1)的下法蘭(15)上的磁控靶(6)；所述單冷卻自轉盤(3)轉動安裝在磁控室(1)的上蓋(2)上，單冷卻自轉盤(3)的一端載有基片、插入磁控室(1)內，位于各磁控靶(6)的上方，另一端位于上蓋(2)的上方；所述上蓋(2)上安裝有帶動單冷卻自轉盤(3)旋轉的第一電機(4)；所述單冷卻自轉盤(3)所載基片的下方設有安裝在上蓋(2)上的手動基片擋板組件(5)。

2.按權利要求1所述帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統，其特征在于：所述機臺架(7)內安裝有電動提升機構(14)，該電動提升機構(14)的輸出端由機臺架(7)穿出、與磁控室(1)的上蓋(2)相連接，帶動上蓋(2)及上蓋(2)上的單冷卻自轉盤(3)及第一電機(4)升降。

3.按權利要求1或2所述帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統，其特征在于：所述單冷卻自轉盤(3)具有一個冷卻工位、處于單冷卻自轉盤(3)的中間，各磁控靶(6)位于該單冷卻自轉盤(3)冷卻工位的周圍。

4.按權利要求1或2所述帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統，其特征在于：所述磁控靶(6)傾斜于基片設置，每個磁控靶(6)上方均設有一個磁控靶擋板(8)，該磁控靶擋板(8)與安裝在機臺架(7)內部的第二電機相連，通過第二電機驅動開關磁控靶擋板(8)。

5.按權利要求1或2所述帶有單冷卻自轉盤的磁控濺射系統，其特征在于：所述手動基片擋板組件(5)包括轉軸及擋板，其中轉軸可轉動地安裝在上蓋(2)上，轉軸的下端連接有擋板。