[實用新型]一種減少粘堝的坩堝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120373117.6 | 申請日: | 2011-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN202359231U | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李松林;丁劍 | 申請(專利權(quán))人: | 江西賽維LDK太陽能高科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B28/06 | 分類號: | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 338000 江西省新余*** | 國省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 減少 坩堝 | ||
1.一種減少粘堝的坩堝,包括:本體和氮化硅層,本體包括底座及由底座向上延伸的側(cè)壁,底座和側(cè)壁共同圍成一收容空間,氮化硅層附著在本體側(cè)壁朝向收容空間的一面,其特征在于,本體側(cè)壁在距本體底座第一高度和第二高度之間的位置沿本體側(cè)壁一周設(shè)置有防脫落層,第二高度高于第一高度,氮化硅層通過防脫落層附著在本體側(cè)壁。
2.如權(quán)利要求1所述的坩堝,其特征在于,所述坩堝為840坩堝,所述第一高度和第二高度之間的位置為本體側(cè)壁在距本體底座227mm~273mm的位置。
3.如權(quán)利要求1所述的坩堝,其特征在于,所述防脫落層為本體側(cè)壁經(jīng)過粗磨或鑲嵌顆粒突起后獲得的粗糙表面。
4.如權(quán)利要求1所述的坩堝,其特征在于,所述防脫落層為無機粘結(jié)劑層或有機粘結(jié)劑層。
5.如權(quán)利要求4所述的坩堝,其特征在于,所述無機粘結(jié)劑為膠態(tài)氧化硅,有機粘結(jié)劑選自聚乙二醇、聚乙烯醇、聚碳酸酯、環(huán)氧化物、羧甲基纖維素中的一種。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江西賽維LDK太陽能高科技有限公司,未經(jīng)江西賽維LDK太陽能高科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201120373117.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





