[實(shí)用新型]一種光罩檢測(cè)設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120346140.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202230031U | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杜武兵;林偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市路維電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88 |
| 代理公司: | 深圳市維邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44269 | 代理人: | 王昌花 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 檢測(cè) 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及光罩檢測(cè)領(lǐng)域,尤其涉及一種光罩檢測(cè)設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體及液晶顯示器行業(yè)的技術(shù)發(fā)展,光罩已成為集成電路(Integrated?Circuit,IC)、薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Thin?Film?Transistor,TFT)、高密度互連(High?Density?Interconnector,HDI)制造中的重要器具。隨著產(chǎn)品的需求增加,光罩應(yīng)用將越來(lái)越廣泛,其精度等各項(xiàng)性能指標(biāo)的要求也越來(lái)越高。特別是在半導(dǎo)體制方面,精度從微米提升到納米級(jí)別,使得對(duì)光罩制作的品質(zhì)要求也越來(lái)越重要,精度的提升直接產(chǎn)生的就是光罩線寬縮小,而因此,光罩的檢查面臨更嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。
現(xiàn)有技術(shù)提供了一種光罩檢測(cè)設(shè)備,其利用移動(dòng)平臺(tái)對(duì)光罩進(jìn)行檢測(cè)時(shí),由于平臺(tái)結(jié)構(gòu)及尺寸無(wú)法滿足大尺寸光罩的檢測(cè),一般只能檢測(cè)到光罩70%的區(qū)域,邊緣區(qū)域無(wú)法檢測(cè)。為了對(duì)邊緣區(qū)域進(jìn)行檢測(cè),需要人工將光罩進(jìn)行旋轉(zhuǎn)后才能進(jìn)行,在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中光罩易產(chǎn)生刮傷,并且光罩與設(shè)備發(fā)生摩擦與碰撞易導(dǎo)致光罩報(bào)廢。另外,光罩檢測(cè)設(shè)備在進(jìn)行大尺寸光罩檢測(cè)后,需要重新記錄兩個(gè)坐標(biāo)原點(diǎn)及其對(duì)應(yīng)坐標(biāo)系統(tǒng),這樣在剛發(fā)現(xiàn)缺陷時(shí),十分容易由于缺陷坐標(biāo)亂導(dǎo)致缺陷漏檢的現(xiàn)象,增加了出貨品質(zhì)的風(fēng)險(xiǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型實(shí)施例所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于,提供一種光罩檢測(cè)設(shè)備,以快速準(zhǔn)確地對(duì)整個(gè)光罩進(jìn)行檢測(cè)。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型實(shí)施例提出了一種光罩檢測(cè)設(shè)備,包括支架臺(tái)、設(shè)置于該支架臺(tái)臺(tái)面上的以承載并在水平方向移動(dòng)光罩的移動(dòng)平臺(tái),以及控制所述移動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)的控制裝置,所述光罩檢測(cè)設(shè)備還包括:架設(shè)于所述支架臺(tái)上方的支撐臂、通過(guò)該支撐臂固定于所述移動(dòng)平臺(tái)中部上方且光學(xué)物鏡分設(shè)于該支撐臂兩側(cè)的雙顯微鏡機(jī)構(gòu),以及與該雙顯微鏡機(jī)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置的光源。
進(jìn)一步地,所述支架臺(tái)的底部設(shè)置有口型防震支腳,所述支撐臂通過(guò)側(cè)邊支架與所述支架臺(tái)相固定,并且所述支撐臂與側(cè)邊支架形成口型防震支架。
進(jìn)一步地,所述移動(dòng)平臺(tái)包括設(shè)置于所述支架臺(tái)臺(tái)面上的橫向平臺(tái)、活動(dòng)設(shè)置于該橫向平臺(tái)上的縱向平臺(tái),以及活動(dòng)設(shè)置于該縱向平臺(tái)上的操作平臺(tái)。
進(jìn)一步地,所述操作平臺(tái)為透光體,所述光源設(shè)置于該透光體對(duì)應(yīng)雙顯微鏡機(jī)構(gòu)的下方。
進(jìn)一步地,所述橫向平臺(tái)上設(shè)置有橫向移動(dòng)導(dǎo)軌,該橫向移動(dòng)導(dǎo)軌上滑設(shè)有橫向移動(dòng)滑塊,所述縱向平臺(tái)固設(shè)于該橫向移動(dòng)滑塊上,所述橫向移動(dòng)滑塊通過(guò)第一絲桿連接到一橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī);所述縱向平臺(tái)上設(shè)置有縱向移動(dòng)導(dǎo)軌,該縱向移動(dòng)導(dǎo)軌上滑設(shè)有縱向移動(dòng)滑塊,所述操作平臺(tái)固設(shè)于該縱向移動(dòng)滑塊上,所述縱向移動(dòng)滑塊通過(guò)第二絲桿連接到一縱向驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
進(jìn)一步地,所述控制裝置與所述橫向驅(qū)動(dòng)電機(jī)及縱向驅(qū)動(dòng)電機(jī)相連,所述控制裝置包括控制盒,以及設(shè)置于該控制盒上的搖桿及用于設(shè)置位移參數(shù)的觸摸屏。
進(jìn)一步地,所述支架臺(tái)由水平面支架及豎直面支架組合而成。
進(jìn)一步地,所述雙顯微鏡機(jī)構(gòu)包括5個(gè)不同倍率的光學(xué)物鏡單體。
本實(shí)用新型實(shí)施例通過(guò)提供一種光罩檢測(cè)設(shè)備,包括支架臺(tái)、設(shè)置于該支架臺(tái)臺(tái)面上的以承載并在水平方向移動(dòng)光罩的移動(dòng)平臺(tái),以及控制所述移動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)的控制裝置,所述光罩檢測(cè)設(shè)備還包括:架設(shè)于所述支架臺(tái)上方的支撐臂、通過(guò)該支撐臂固定于所述移動(dòng)平臺(tái)中部上方且光學(xué)物鏡分設(shè)于該支撐臂兩側(cè)的雙顯微鏡機(jī)構(gòu),以及與該雙顯微鏡機(jī)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置的光源,從而,雙顯微鏡機(jī)構(gòu)可同時(shí)進(jìn)行光罩兩側(cè)范圍的檢測(cè),而不用對(duì)光罩進(jìn)行旋轉(zhuǎn),避免了光罩在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中的刮傷及報(bào)廢;另外可統(tǒng)一缺陷坐標(biāo)系統(tǒng),保證了光罩缺陷的完全檢測(cè)及修復(fù),保證了出貨品質(zhì)。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的光罩檢測(cè)設(shè)備的主視圖。
圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的光罩檢測(cè)設(shè)備的俯視圖。
圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例的光罩檢測(cè)設(shè)備的側(cè)視圖。
圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例的光罩檢測(cè)設(shè)備中控制裝置的結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
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