[實(shí)用新型]窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201120262642.0
• 申請(qǐng)日: 2011-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN202195686U
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹磊;劉德春;曹福利;任小弟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津市宏遠(yuǎn)鈦鐵有限公司
• 主分類號(hào): F27B7/20
• 分類號(hào): F27B7/20
• 代理公司: 天津?yàn)I海科緯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211
• 代理人: 韓敏

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于回轉(zhuǎn)窯技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

回轉(zhuǎn)窯窯頭密封的情況對(duì)回轉(zhuǎn)窯的高效運(yùn)行及穩(wěn)定性起到非常重要的作用。在回轉(zhuǎn)窯的正常運(yùn)行過程中，由于窯頭是負(fù)壓狀態(tài)，漏灰現(xiàn)象不太明顯，而一旦操作出現(xiàn)問題，則窯頭漏灰將會(huì)非常嚴(yán)重，影響產(chǎn)品的生產(chǎn)。現(xiàn)有的回轉(zhuǎn)窯的密封裝置是在窯頭與筒體之間設(shè)置密封板，這樣解決了一定的密封問題，但是密封效果并不太好，而且由于回轉(zhuǎn)窯內(nèi)產(chǎn)生大量的高溫氣體和高濃度含塵氣體會(huì)對(duì)密封板產(chǎn)生較大的沖擊力，損壞密封板，影響企業(yè)的生產(chǎn)作業(yè)，給企業(yè)帶來較大的損失。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種減緩沖擊力，有效保護(hù)密封板的窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)，尤其適合于回轉(zhuǎn)窯的窯頭密封。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)采用的技術(shù)方案是：窯頭罩端部開口邊緣上設(shè)有窯頭罩突沿，筒體端部開口邊緣上設(shè)有長(zhǎng)突沿和短突沿，長(zhǎng)突沿位于短突沿的內(nèi)側(cè)，窯頭罩突沿與短突沿交錯(cuò)，長(zhǎng)突沿上設(shè)有擋板，擋板的頂端位于窯頭罩突沿的下方。

進(jìn)一步，所述的窯頭罩突沿呈折邊形，窯頭罩突沿的上折邊位于擋板的上側(cè)，并有空隙；窯頭罩突沿的下折邊位于短突沿的下側(cè)，并有空隙。

進(jìn)一步，所述窯頭罩突沿與窯頭罩端部開口邊緣存在一定的間隔距離

本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是：由于采用上述技術(shù)方案，窯內(nèi)的壓力得以緩沖，可以有效的保護(hù)密封板，從而提高密封效果，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，維修方便，加工成本低、適于大規(guī)模推廣等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)示意圖

圖中：1、窯頭罩；2、筒體；3、長(zhǎng)突沿；4、短突沿；5、窯頭罩突沿；6、擋板

具體實(shí)施方式

如圖1所示，本實(shí)用新型窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)，窯頭罩1端部開口邊緣上設(shè)有窯頭罩突沿5，筒體2端部開口邊緣上設(shè)有長(zhǎng)突沿3和短突沿4，長(zhǎng)突沿3位于短突沿4的內(nèi)側(cè)，窯頭罩突沿5與短突沿4交錯(cuò)，長(zhǎng)突沿3上設(shè)有擋板6，擋板6的頂端位于窯頭罩突沿5的下方。

為了更好的使窯內(nèi)的壓力和高濃度含塵氣體得以緩沖，將所述的窯頭罩突沿5設(shè)計(jì)為折邊形，窯頭罩突沿5的上折邊位于擋板6的上側(cè)，并有空隙；窯頭罩突沿5的下折邊位于短突沿4的下側(cè)，并有空隙。所述窯頭罩突沿5與窯頭罩1端部開口邊緣存在一定的間隔距離。

在回轉(zhuǎn)窯工作的過程中，窯內(nèi)的高濃度含塵氣體在本實(shí)用新型窯頭處的迷宮式緩沖結(jié)構(gòu)內(nèi)得以緩沖，可以有效的保護(hù)密封板，防止泄露，提高回轉(zhuǎn)窯的工作效率。

以上對(duì)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本實(shí)用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。