[實用新型]用于多晶硅副產物四氯化硅處理的聚集器

無效

• 申請號: 201120073384.1
• 申請日: 2011-03-18
• 公開（公告）號: CN202054616U
• 公開（公告）日: 2011-11-30
• 發明（設計）人: 嚴大洲;毋克力;肖榮暉;湯傳斌;謝正和;杜俊平;謝冬暉;汪紹芬;郭富東
• 申請（專利權）人: 中國恩菲工程技術有限公司
• 主分類號: C01B33/12
• 分類號: C01B33/12;C01B7/01
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成

技術領域

本實用新型涉及一種聚集器，尤其是涉及一種用于多晶硅副產物四氯化硅處理的聚集器。

背景技術

近年來，隨著硅太陽能電池的發展，多晶硅市場得以迅猛增長。目前國際上采用的多晶硅制備方法均為改良的西門子法，即采用三氯氫硅氫化還原，其副產物主要是四氯化硅，生產1噸多晶硅所產生的副產物四氯化硅大約為12～18噸，因此如何處理副產物四氯化硅已經成為多晶硅工業發展的一大瓶頸。

實用新型內容

本實用新型的一個目的在于提出一種用于多晶硅副產物四氯化硅處理的聚集器，該聚集器可以用在用多晶硅副產物四氯化硅生產二氧化硅中，以將納米級二氧化硅聚集成可以用作成品的微米級二氧化硅，且結構簡單，成本低。

根據本實用新型的用于多晶硅副產物四氯化硅處理的聚集器，包括：多個聚集管，所述多個聚集管依次相連以限定出以曲線形式延伸的聚集腔，其中所述多個聚集管中的第一個聚集管的自由端用作聚集器入口且最后一個聚集管的自由端用作聚集器出口。

根據本實用新型的聚集器，用在用多晶硅副產物四氯化硅生產二氧化硅中，以將納米級二氧化硅聚集成可以用作成品的微米級二氧化硅，且結構簡單，成本低。

另外，根據本實用新型上述的用于多晶硅副產物四氯化硅處理的聚集器還可以具有如下附加的技術特征：

所述曲線形式由多個Z字形構成。

相鄰的兩個聚集管在所述聚集腔延伸的方向上彼此錯開。

每個聚集管包括直線段和位于直線段兩端的兩個彎頭段，在所述兩個彎頭段的自由端分別設有連接法蘭，且相鄰的聚集管通過所述連接法蘭相連。

所述第一個聚集管和最后一個聚集管上分別設有測量口，所述測量口內分別設有用于檢測所述聚集腔內的溫度和壓力的檢測儀。

本實用新型的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

附圖說明

本實用新型的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是具有根據本實用新型實施例的聚集器的多晶硅副產物四氯化硅處理設備的框圖；

圖2是圖1所示多晶硅副產物四氯化硅處理設備的反應器的示意圖；

圖3是圖2所示反應器的分布器的示意圖；

圖4是圖3所示分布器的局部示意圖，其中示出了葉片的排列方式；

圖5是圖1所示多晶硅副產物四氯化硅處理設備的收集冷卻器的示意圖；

圖6是圖5所示收集冷卻器的內殼的示意圖；

圖7是圖5所示收集冷卻器的旋體的示意圖；

圖8是圖5所示收集冷卻器的外殼的示意圖；

圖9是根據本實用新型實施例的聚集器的示意圖；

圖10是圖9所示聚集器的俯視示意圖；

圖11是圖9所示聚集器的聚集管的示意圖；

圖12是圖1所示多晶硅副產物四氯化硅處理設備的脫酸器的示意圖；

圖13是圖12所示脫酸器的擴大段的示意圖；

圖14是圖12所示脫酸器的爐身的示意圖；和

圖15是圖1所示多晶硅副產物四氯化硅處理設備的操作流程圖。

具體實施方式

下面詳細描述本實用新型的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本實用新型，而不能理解為對本實用新型的限制。

在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。

在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。此外，在本實用新型的實施例中，術語“口”應作廣義理解，例如可以為開口，也可以為連接在開口上的一段管的形式。