[發(fā)明專利]一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110455950.X
• 申請(qǐng)日: 2011-12-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103184418A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周文彬;劉幼海;劉吉人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吉富新能源科技(上海)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C14/46
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明關(guān)于一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置，特別關(guān)于一種鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置，達(dá)到氣體均勻分布于鍍膜制程腔內(nèi)，完成均勻分布的電漿范圍。

背景技術(shù)

當(dāng)前，鍍膜技術(shù)中之濺鍍法(Sputtering)，其原理是在一真空腔體中通入工作氣體，通常為Ar，并以靶材為陰極，使得工作氣體在高壓電場(chǎng)作用下被解離成離子與電子狀態(tài)，形成電漿，電漿中的正離子于高壓電場(chǎng)中會(huì)加速移動(dòng)并轟擊陰極靶材(Target)的表面，使靶材原子濺飛出并沉積、附著在光伏玻璃的表面上，以形成薄膜；現(xiàn)有一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置，水平設(shè)置于制程腔用以將工作氣體導(dǎo)入于該腔體中，然而，由于該氣體引入只有中心進(jìn)氣點(diǎn)，相當(dāng)容易造成工作氣體過(guò)度集中于中間段部，而該制程腔體之上、下段部處的氣體量卻較為稀薄、不均的現(xiàn)象，如此一來(lái)，不僅會(huì)連帶影響到該制程腔體內(nèi)部所通入工作氣體的擴(kuò)散均勻性，還會(huì)影響濺鍍作業(yè)之質(zhì)量效率，尤其所述不良現(xiàn)象的負(fù)面影響，將隨著真空濺鍍?cè)O(shè)備之尺寸規(guī)格日漸增大而更趨明顯、嚴(yán)重；本案創(chuàng)作人鑒于上述現(xiàn)有真空濺鍍?cè)O(shè)備的進(jìn)氣裝置具所衍生的各項(xiàng)問(wèn)題及不足，乃亟思加以改良創(chuàng)新，并經(jīng)多年苦心孤詣潛心研究后，終于成功研發(fā)完成一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明在于提供一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置，主要包含：一反應(yīng)制程腔體、一氣體導(dǎo)引管路、一導(dǎo)引管路框架所組成，通過(guò)外接入之氣體透過(guò)氣體導(dǎo)引管所設(shè)置的氣體導(dǎo)入接頭進(jìn)入，氣體導(dǎo)引管路上設(shè)有依照氣體導(dǎo)入管路長(zhǎng)度分布平均的小孔作為氣體噴出口，形成一側(cè)邊向下噴出的動(dòng)作，導(dǎo)引管路框架支撐氣體導(dǎo)引管路，使其能水平置放于導(dǎo)引管路框架上，使得制成氣體能有效集中于反應(yīng)區(qū)，完成一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置，藉此，可達(dá)到有效均勻分布?xì)怏w于鍍膜制程腔內(nèi)部，完成均勻分布之電漿粒子內(nèi)。本發(fā)明有益效果為：1.??????本發(fā)明利用管路開(kāi)孔的密度不同達(dá)到氣體導(dǎo)入均勻分布于制程腔體中，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，2.??????本發(fā)明后續(xù)不需要維護(hù)保養(yǎng)，節(jié)省保養(yǎng)成本。

具體實(shí)施方式

????下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明。

請(qǐng)參閱第一圖、第二圖及第三圖所示，為一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置，其包括一導(dǎo)引管路框架12、氣體導(dǎo)引管路11、該氣體導(dǎo)引管路11水平架設(shè)于導(dǎo)引管路框架12上，氣體導(dǎo)引管路框架12上設(shè)有固定架21，用以固定氣體導(dǎo)引管路11，該氣體透過(guò)氣體導(dǎo)入接頭22引入，引入之氣體透過(guò)氣體導(dǎo)引管路11上設(shè)置的小孔31向外噴出，該小孔31以不同密度分布于氣體導(dǎo)引管路11上，通常為中間段較疏，上下兩段較密集，以防止氣體引入后過(guò)度集中于中間段，造成鍍膜制程腔氣體分布不均勻，而致使電漿分布也同時(shí)不均勻。

本發(fā)明在突破先前之技術(shù)結(jié)構(gòu)下，確實(shí)已達(dá)到所欲增進(jìn)之功效，且也非熟悉該項(xiàng)技藝者所易于思及，其所具之進(jìn)步性、實(shí)用性，顯已符合發(fā)明專利之申請(qǐng)要件，惟上列詳細(xì)說(shuō)明系針對(duì)本發(fā)明之一可行實(shí)施例之具體說(shuō)明，該實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明之專利范圍，而凡未脫離本發(fā)明技藝精神所為之等效實(shí)施或變更，均應(yīng)包含于本案之專利范圍中。

???第一圖系為本發(fā)明之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置示意圖,第二圖系為本發(fā)明之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置氣體導(dǎo)引管路示意圖,第三圖系為本發(fā)明之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置氣體導(dǎo)引管路開(kāi)孔示意圖。

主要組件符號(hào)說(shuō)明：11．．．氣體導(dǎo)引管路12．．．導(dǎo)引管路框架21．．．固定架22．．．氣體導(dǎo)入接頭31．．．小孔。