[發明專利]一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法有效
| 申請號: | 201110451756.4 | 申請日: | 2011-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN102534666A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 譚毅;李亞瓊;李佳艷;李超超;武深瑞;劉瑤 | 申請(專利權)人: | 大連理工大學 |
| 主分類號: | C25C3/06 | 分類號: | C25C3/06;C25B1/00 |
| 代理公司: | 大連星海專利事務所 21208 | 代理人: | 徐淑東 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高純 電化學 精煉 提純 方法 | ||
1.一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于,具體步驟如下:?(1)合金精煉提純:采用合金精煉法對金屬鋁和冶金硅的混合原料進行熔煉,去除冶金硅中的雜質硼,從而得到鋁硅合金;(2)?電解分離:鋁硅合金作為陽極,不銹鋼作為陰極,低溫熔鹽作為電解液,進行恒電流電解,陽極富集的陽極泥為多晶硅,陰極富集鋁;(3)后處理:將陽極富集的多晶硅進行破碎、酸洗除雜、去離子水清洗、過濾和干燥,獲得低硼的多晶硅,將陰極富集的鋁進行清洗、干燥獲得高純鋁。
2.根據權利要求1所述的一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于:所述(1)合金精煉提純中金屬鋁的純度為質量分數90%-99%,冶金硅的純度為質量分數98%-99%。
3.根據權利要求1所述的一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于:所述(1)合金精煉提純的具體工藝參數為:熔煉溫度為700-1400℃,保溫時間為0.5-4h,降溫速度為0.1-20℃/min。
4.根據權利要求1所述的一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于:所述(1)合金精煉提純中鋁硅合金中金屬鋁的質量分數為20%-80%。
5.根據權利要求1所述的一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于:所述(2)電解分離中的低溫熔鹽為NaCl-AlCl3或NaCl-AlCl3-KCl,其中AlCl3的摩爾分數為30%-65%。
6.根據權利要求1所述的一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于:所述(2)電解分離具體工藝參數為:電流密度10-200?mA/cm2,電解溫度60-300℃,電解時間0.5-6h。
7.根據權利要求1所述的一種高純硅與高純鋁的電化學雙精煉提純的方法,其特征在于:所述(3)后處理中酸洗除雜的酸試劑為鹽酸、氫氟酸、硝酸、硫酸和王水中的一種或幾種,酸濃度為1.0~6.0mol/L。
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