[發明專利]一種大口徑凸非球面的全孔徑檢測方法

無效

• 申請號: 201110451136.0
• 申請日: 2011-12-29
• 公開（公告）號: CN102519392A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 劉華;盧振武
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 張偉

1.一種大口徑凸非球面全孔徑檢測方法，其特征在于，包括以下步驟，

A、利用透鏡(8)的凹面(9)上第一區域(17)的曲面計算全息圖，以曲面計算全息法對與所述凹面(9)相對的待測面(10)的中心區域進行檢測；

B、利用透鏡(8)的凹面(9)上第二區域(18)的曲面計算全息圖，以曲面計算全息法對與所述凹面(9)相對的待測面(10)的邊緣區域進行檢測；

所述第一區域(17)為位于所述凹面(9)中心的圓形區域，所述第二區域(18)為所述凹面(9)上的位于所述第一區域(17)外圍的環形區域；

所述第一區域(17)的曲面計算全息圖可以使干涉圖的中心亮斑的面積小于等于待測面(10)總面積的1％；所述第二區域(18)的曲面計算全息圖的外圍邊緣部分的尺寸大于等于最小加工尺寸。

2.如權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述步驟A具體包括以下步驟：

a01、以相干光入射到透鏡(8)的凸面上；

a02、所述第一區域(17)的曲面計算全息圖反射回的相干光形成參考波前；

a03、所述第一區域(17)的曲面計算全息圖透射的相干光，由待測面(10)反射；

a04、經待測面(10)反射形成的波前與所述參考波前相干涉，成像到CCD探測器(5)上，實現對待測面(10)的中心區域的檢測。

3.如權利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述步驟B具體包括以下步驟：

b01、以相干光入射到透鏡(8)的凸面上；

b02、所述第二區域(18)的曲面計算全息圖反射回的相干光形成參考波前；

b03、所述第二區域(18)的曲面計算全息圖透射的相干光，由待測面(10)反射；

b04、經待測面(10)反射形成的波前與所述參考波前相干涉，成像到CCD探測器(5)上，實現對待測面(10)的邊緣區域的檢測。

4.如權利要求1-3任一所述的檢測方法，其特征在于，所述步驟A中所述第一區域(17)的曲面計算全息圖的確定方法包括以下步驟：

a11、輸出檢測波光程差函數；

a12、將步驟a11中得到的光程差函數轉換成頻率函數；

a13、確定濾波光闌孔徑；

a14、輸出檢測波0、2級的光程差；

a15、將步驟a14中得到的光程差轉換成頻率；

a16、由步驟a15得到的頻率確定中心亮斑的大?。?/p>

a17、判斷中心亮斑的面積是否小于等于待測面(10)總面積的1％：如果是，則完成曲面計算全息圖的確定；如果否，則增加凹面(9)與待測面(10)的間距，返回步驟a13。

5.如權利要求1-3任一所述的檢測方法，其特征在于，所述步驟B中所述第二區域(18)的曲面計算全息圖的確定方法包括以下步驟：

b11、輸出曲面計算全息圖邊緣部分周期函數；

b12、判斷外圍邊緣部分的最小周期是否小于等于最小加工尺寸對應的周期：如果是，則完成曲面計算全息圖的確定；如果否，則減小凹面(9)與待測面(10)的間距，返回步驟b11。

6.如權利要求1-3任一所述的檢測方法，其特征在于，所述待測面(10)的口徑為100mm以上。