[發明專利]核-表層梯度式氮氧化物熒光粉及制造方法和采用該熒光粉的發光器件

有效

• 申請號: 201110443844.X
• 申請日: 2011-12-27
• 公開（公告）號: CN102559173A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 何錦華;滕曉明;梁超;符義兵
• 申請（專利權）人: 江蘇博睿光電有限公司
• 主分類號: C09K11/59
• 分類號: C09K11/59;H01L33/50
• 代理公司: 南京天翼專利代理有限責任公司 32112
• 代理人: 湯志武

1.一種核-表層梯度式氮氧化物熒光粉，其特征在其化學式為：

L_xSi_yO_ZN_{(2/3)X+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR/L’_xSi_yO_ZN_{(2/3)X+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR

其中，L為Ca和Sr中至少一種，L’為Ca、Sr和Ba中至少一種，R為Eu和Ce中的至少一種；

0.8≤X≤1.2，1.8≤Y≤2.2，1.8≤Z≤2.2，0.01≤w≤0.1。

2.如權利要求1所述的熒光粉，其特征在于當L全部為Ca時，可部分被Y或Lu取代，取代摩爾比與R一致。

3.權利要求1或2所述熒光粉的制備方法，其特征在于：

1)按化學式L_xSi_yO_ZN_{(2/3)X+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR和L’_xSi_yO_ZN_{(2/3)X+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR來進行配料：

以L的單質或含L的化合物，含L’的單質或含L’的化合物為原料，含R的單質或含R的化合物為原料按上述兩個化學式表達要求的摩爾比分別稱取相應原料，并添加助熔劑，經研磨后混合均勻形成2種混合料；

2)將步驟1)得到的混合料在還原氣氛中進行高溫焙燒；還原氣氛選自H₂、N₂/H₂或NH₃中的一種；

3)將步驟2)得到的焙燒產物L_xSi_yO_ZN_{(2/3)X+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR經后處理過程，得到形貌比較規則的產物；再將步驟(2)得到的焙燒產物L’_xSi_yO_ZN_{(2/3)x+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR通過噴涂或沉積的方式部分覆蓋或全部覆蓋在L_xSi_yO_ZN_{(2/3)X+(4/3)Y-(2/3)Z}:wR表面，即制得成品。

4.根據權利要求3所述的制造熒光粉的方法，其特征在于步驟1)中，所述的化合物包括L、L’、R所分別對應的氧化物、氮化物和碳酸鹽中的一種或一種以上任意比例的混合物。

5.根據權利要求3所述的制造熒光粉的方法，其特征在于步驟1)中，助熔劑為含L、L’的氟化物，堿金屬鹵化物，銨的鹵化物中的至少一種，其用量為原料的總重量的0.01-10wt％。

6.根據權利要求3所述的方法，其特征在于步驟1)中的研磨在乙醇、丙酮或水中進行。

7.根據權利要求3所述的方法，其特征在于步驟2)中的高溫焙燒至少為一次。

8.根據權利要求3所述的方法，其特征在于步驟2)中每次高溫焙燒溫度為1100～1600℃。

9.根據權利要求3所述的方法，其特征在于步驟2)中每次高溫焙燒時間為0.5～15小時。

10.根據權利要求3所述的的方法，其特征在于步驟3)中，后處理過程包括破碎、氣流粉碎、除雜、烘干及分級。

11.根據權利要求9所述的方法，其特征在于除雜采用酸洗或水洗。

12.根據權利要求9所述的方法，其特征在于分級采用降法、篩分法、水力分級或氣流分級中的至少一種。

13.根據權利要求3所述的方法，其特征在于噴涂或沉積選自火焰噴涂、等離子噴涂、真空鍍和離子鍍等方法中的一種。

14.根據權利要求3所述的方法，其特征在于表面覆蓋物的粒徑為0.1um-10um。