[發(fā)明專利]放電加工模具表面清潔方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110440942.8
• 申請日: 2011-12-26
• 公開（公告）號: CN103170481A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設計）人: 高于迦;莊道良;黃建龍;陸培雄;施國彰
• 申請（專利權(quán)）人: 財團法人金屬工業(yè)研究發(fā)展中心
• 主分類號: B08B7/04
• 分類號: B08B7/04
• 代理公司: 北京匯智英財專利代理事務所(普通合伙) 11301
• 代理人: 吳懷權(quán)

1.一種放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，包含：

一個初步清潔步驟，以濕式清洗的方式清洗一個待清潔的放電加工模具，并于清洗后將該放電加工模具干燥；

一個激光表面處理步驟，將至少一個完成該初步清潔步驟后的放電加工模具置放于一個雙軸定位設備的工作平臺，通過該雙軸定位設備設定一個移行路徑，由該雙軸定位設備控制一個激光裝置及一個攝像裝置沿該移行路徑相對于該工作平臺產(chǎn)生位移，并在通過該攝像裝置發(fā)現(xiàn)該至少一個放電加工模具表面有積碳或臟污時，以該激光裝置產(chǎn)生一個激光光束去除該積碳或臟污；及

一個大氣電漿處理步驟，以一個大氣電漿清潔裝置清潔該至少一個放電加工模具的表面。

2.如權(quán)利要求1所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，另包含一個檢測步驟，該檢測步驟檢查經(jīng)該大氣電漿處理步驟清潔后的各該放電加工模具表面的清潔度是否已達合格標準。

3.如權(quán)利要求1或2所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該移行路徑具有數(shù)個停滯點，當該攝像裝置對位至各該停滯點時，該工作平臺與攝像裝置之間的相對位移將暫停一段預設時間，并隨后繼續(xù)沿該移行路徑位移。

4.如權(quán)利要求1或2所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該激光光束的功率為3~100W。

5.如權(quán)利要求1或2所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該大氣電漿清潔裝置架設于該雙軸定位設備，并與該工作平臺相對。

6.如權(quán)利要求5所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該雙軸定位設備控制該大氣電漿清潔裝置與該工作平臺產(chǎn)生相對位移，且同時由該大氣電漿清潔裝置向該至少一個放電加工模具噴射大氣電漿。

7.如權(quán)利要求6所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該大氣電漿清潔裝置與該工作平臺之間的相對位移速率為5~100?mm/second。

8.如權(quán)利要求5所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該大氣電漿清潔裝置的工作氣體為空氣、氮氣、氧氣、氬氣或其混合氣體，工作電壓為100~500V。

9.如權(quán)利要求2所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，由該檢測步驟檢出清潔度未達該合格標準的放電加工模具，則再次進行該激光表面處理步驟及大氣電漿處理步驟，以清除表面的積碳或臟污，直至由該檢測步驟檢出的清潔度達合格標準為止。

10.如權(quán)利要求1所述的放電加工模具表面清潔方法，其特征在于，該濕式清洗包含脫脂及水洗程序。