[發(fā)明專利]碳膜包覆鉆頭及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110439676.7 | 申請日: | 2011-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN102554319A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 高橋正訓;日向野哲;柳田一也;成毛康一郎;豬狩俊一 | 申請(專利權)人: | 三菱綜合材料株式會社 |
| 主分類號: | B23B51/00 | 分類號: | B23B51/00;B23K26/38 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產(chǎn)權代理有限公司 11018 | 代理人: | 齊葵;王誠華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 碳膜包覆 鉆頭 及其 制造 方法 | ||
1.一種碳膜包覆鉆頭(1),其特征在于,具有:
工具基體(2),具有基體刀尖(2b)和夾著所述基體刀尖(2b)相互鄰接的基體前刀面(2c)及基體后刀面(2d);以及
碳膜(3),形成在所述基體刀尖(2b)、所述基體前刀面(2c)及所述基體后刀面(2d)上,
在所述碳膜(3)上,在所述基體前刀面(2c)上的區(qū)域及所述基體后刀面(2d)上的區(qū)域分別形成有向所述工具基體凹陷的前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及后刀面?zhèn)鹊陌济?3a),
所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济嬖谒龌w刀尖(2b)上交叉,從而在所述碳膜(3)上形成碳膜刀尖(3b),
所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)與所述后刀面?zhèn)鹊陌济?3a)交叉形成的角度(θ1)小于所述基體前刀面(2c)與所述基體后刀面(2d)所構成的角度(θ0)。
2.根據(jù)權利要求1所述的碳膜包覆鉆頭(1),所述碳膜為金剛石膜。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的碳膜包覆鉆頭(1),由與所述碳膜刀尖(3b)正交的面所形成的所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济娴钠拭鏋閳A弧形狀。
4.根據(jù)權利要求3所述的碳膜包覆鉆頭(1),所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济娴钠拭娴膱A弧形狀的曲率半徑在5μm至3000μm的范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權利要求4所述的碳膜包覆鉆頭(1),所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济娴脑谂c碳膜刀尖正交且沿各自的面的方向上的寬度在10μm至2000μm的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權利要求4所述的碳膜包覆鉆頭(1),所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济?3a)的深度在2μm至15μm的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權利要求4所述的碳膜包覆鉆頭(1),所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济娴脑谂c碳膜刀尖正交的方向上的寬度在10μm至2000μm的范圍內(nèi),
所述前刀面?zhèn)鹊陌济?3a)及所述后刀面?zhèn)鹊陌济?3a)的深度在2μm至15μm的范圍內(nèi)。
8.一種碳膜包覆鉆頭的制造方法,為制造碳膜包覆鉆頭的方法,其特征在于,具有:
基體準備工序,準備具有基體刀尖(2b)和夾著所述基體刀尖(2b)相互鄰接的基體前刀面(2c)及基體后刀面(2d)的工具基體(2);
碳膜形成工序,在所述工具基體(2)的所述基體前刀面(2c)、所述基體后刀面(2d)以及所述基體刀尖(2b)上形成碳膜;以及
激光加工工序,對所述碳膜(3)照射激光束,加工形成在所述基體前刀面(2c)上的區(qū)域及所述基體后刀面(2d)上的區(qū)域的所述碳膜(3),從而分別在前刀面?zhèn)燃昂蟮睹鎮(zhèn)刃纬汕暗睹鎮(zhèn)鹊陌济?3a)及后刀面?zhèn)鹊陌济?3a),
所述前刀面?zhèn)燃八龊蟮睹鎮(zhèn)鹊陌济?3a)在所述基體刀尖上交叉而形成碳膜刀尖(3b),
在所述激光加工工序中,所述激光束的光束剖面上的光強分布呈現(xiàn)為高斯分布,
從所述碳膜刀尖的前方朝向所述碳膜刀尖附近的所述前刀面?zhèn)然蛩龊蟮睹鎮(zhèn)鹊乃鎏寄ふ丈渌黾す馐?/p>
所述激光束沿著所述碳膜刀尖的延伸方向進行掃描。
9.根據(jù)權利要求8所述的碳膜包覆鉆頭的制造方法,
在所述碳膜形成工序中,通過CVD成膜涂覆,將所述碳膜在所述基體刀尖上形成為比其他部分更加隆起。
10.根據(jù)權利要求8或9所述的碳膜包覆鉆頭的制造方法,
所述碳膜為金剛石膜,
所述激光束的波長為360nm以下。
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