[發明專利]一種鈰基拋光液殘留物的清洗方法

有效

• 申請號: 201110430321.1
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN102517594A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 馬瑾;郭云飛;張艷
• 申請（專利權）人: 西安北方捷瑞光電科技有限公司
• 主分類號: C23G1/02
• 分類號: C23G1/02
• 代理公司: 西安西交通盛知識產權代理有限責任公司 61217
• 代理人: 陳翠蘭

技術領域

本發明涉及清洗技術領域，特別涉及一種拋光液殘留物的新型清洗方法。

背景技術

目前用于超光滑表面加工的拋光液，因其具有高拋光效率和高表面質量等優點而備受加工者的青睞，但由于拋光液的成分多樣化，組成復雜，配方比例呈保密狀態，導致針對此類拋光液清洗的技術可靠性低，清洗后零件仍有少量拋光液的殘留物，使得拋光后的零件表面清洗不干凈，從而引起超精密器件產品合格率降低，占次品率的50％左右。因此，清洗質量的高低已嚴重影響到先進精密儀器的性能，超光滑表面的超精密清洗技術也隨之成為超精密加工技術中急待解決的關鍵性難題之一。

發明內容

本發明的目的是提供一種針對拋光液殘留物的清洗方法，與傳統方法相比，該方法既可以有效的去除拋光液殘留物，提高零件潔凈度；又可以改善超光滑零件的表面質量，避免清洗液對零件表面質量的損傷和腐蝕，對零件表面的微粗糙度影響甚小，從而提高了零件的良品率。

為了實現上述目的，本發明采用如下技術方案：

一種鈰基拋光液殘留物的清洗方法，包括以下步驟：

1)采用體積比為HNO₃∶H₂O₂∶H₂O＝1∶1∶1的酸性溶液清洗零件表面殘留的鈰基拋光粉；

2)用純水噴淋的方式清洗從步驟1)中取出的零件，清洗5min；

3)量取純水600ml，稱取乙二胺四乙酸(EDTA)8g和氫氧化鈉3.5-4g并完全溶解于所述600ml純水中；

4)取步驟3)中已經配制好的溶液稀釋至2-5倍純水中，放置電爐上煮沸；

5)將步驟2)中洗好的零件放入步驟4)的溶液中煮沸；

6)用純水噴淋的方式清洗從步驟5)中取出的零件，清洗5min，即完成鈰基拋光液殘留物的清洗。

步驟1)中所述酸性溶液清洗的時間為1-1.5h。

步驟2)中所述純水的溫度為40-50℃。

步驟4)中所述溶液煮沸時間為3-5min。

與傳統清洗技術相比，本發明具有以下優點：本發明方法利用HNO₃∶H₂O₂∶H₂O的酸性溶液溶解大部分殘余拋光粉；利用EDTA試劑可以與鈰基金屬鉻合的特點，將零件表面殘余金屬離子經絡合、沉淀后脫離零件表面；再利用氫氧化鈉可以去除拋光液中有機物的特點，使得零件表面的殘留拋光粉易清洗，清洗時間短，對零件表面的微粗糙度影響小。綜上所述，本發明方法研制的鈰基拋光液殘留物的新型清洗方法能夠有效去除頑固的拋光液殘留物，從而獲得表面高潔凈度高的超光滑表面。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發明做進一步詳細描述。

實施例1：

1)采用體積比為HNO₃∶H₂O₂∶H₂O＝1∶1∶1的酸性溶液清洗零件表面殘留的鈰基拋光粉1h；

2)用純水噴淋的方式清洗從步驟1)中取出的零件，清洗5min；

3)向600ml、45℃的純水中加入8克乙二胺四乙酸(EDTA)和3.5g的氫氧化鈉，攪拌至充分溶解；

4)將步驟3)中已經配制好的溶液稀釋5倍，并煮沸4min；

5)將步驟2)中清洗的零件放入步驟4中煮4min，即完成鈰基拋光液殘留物的清洗。

清洗效果如下：

通過奧林巴斯工具顯微鏡和Talysurf?CCI?Lite白光三維形貌測量儀對采用不同溶液清洗的零件表面潔凈度和粗糙度進行檢測，采用本實施例清洗的零件表面無拋光粉殘留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了可達到0.1nm，傳統方法清洗的零件表面存有拋光粉殘留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了0.3nm。

實施例2

1)采用HNO₃∶H₂O₂∶H₂O＝1∶1∶1的酸性溶液清洗零件表面殘留的鈰基拋光粉1.2h；

2)用純水噴淋的方式清洗從步驟1)中取出的零件，清洗時間5min；

3)向600ml、40℃的純水中加入8克乙二胺四乙酸(EDTA)和4g的氫氧化鈉，攪拌至充分溶解；

4)將步驟3)中已經配制好的溶液稀釋2倍，并煮沸3min；