[發明專利]光刻設備和器件制造方法有效
| 申請號: | 201110428811.8 | 申請日: | 2011-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN102566306A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | J·P·M·B·沃麥尤倫;A·F·J·德格魯特;T·P·M·卡迪;J·德保伊 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 吳敬蓮 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 設備 器件 制造 方法 | ||
1.一種光刻設備,所述光刻設備包括:
投影系統,布置成將圖案從圖案形成裝置轉移至襯底上;
承載裝置;和
驅動系統,用于在通過參考正交的軸線X和Y定義的平面中相對于所述投影系統移動所述承載裝置,其中:
所述驅動系統包括:
穿梭件,構造成且布置成平行于所述Y軸線移動;
穿梭件連接器,用于將所述穿梭件連接至所述承載裝置,所述穿梭件連接器被使得允許所述承載裝置沿著平行于所述X軸線的方向相對于所述穿梭件移動;和
穿梭件驅動器,用于平行于所述Y軸線驅動所述穿梭件移動,其中:
所述穿梭件沿著平行于所述X軸線的方向僅定位至所述承載裝置的一側,僅所述穿梭件中的一個連接至所述承載裝置;和
所述穿梭件驅動器和穿梭件連接器配置成供給由所述驅動系統施加至所述承載裝置的力的所述Y分量的至少10%。
2.根據權利要求1所述的光刻設備,其中:
所述驅動系統包括磁體和線圈系統,所述磁體和線圈系統配置成僅平行于所述X軸線將力施加至所述承載裝置而不借助于所述穿梭件,所述穿梭件驅動器和穿梭件連接器配置成供給由所述驅動系統施加至所述承載裝置的力的所述Y分量的全部。
3.根據權利要求1或2所述的光刻設備,還包括:
穿梭件連接器驅動器,用于借助所述穿梭件連接器平行于所述X軸線驅動所述承載裝置的移動,其中:
所述穿梭件連接器驅動器配置成供給由所述驅動系統施加至所述承載裝置的力的所述X分量的至少10%。
4.一種光刻設備,所述光刻設備包括:
投影系統,布置成將圖案從圖案形成裝置轉移到襯底上;
承載裝置;和
驅動系統,用于在通過參考正交的軸線X和Y定義的平面中相對于所述投影系統移動所述承載裝置,其中:
所述驅動系統包括:
穿梭件,構造成且布置成平行于所述Y軸線移動;
穿梭件連接器,用于將所述穿梭件連接至所述承載裝置,所述穿梭件連接器被使得允許所述承載裝置沿著平行于所述X軸線的方向相對于所述穿梭件移動;和
穿梭件連接器驅動器,用于借助于所述穿梭件連接器平行于所述X軸線驅動所述穿梭件移動,其中:
所述穿梭件沿著平行于所述X軸線的方向僅定位至所述承載裝置的一側,僅所述穿梭件中的一個連接至所述承載裝置。
5.根據權利要求4所述的光刻設備,其中:
所述穿梭件連接器驅動器和穿梭件連接器配置成供給由所述驅動系統施加至所述承載裝置的力的所述X分量的至少10%。
6.根據權利要求4所述的光刻設備,其中:
所述驅動系統包括磁體和線圈系統,所述磁體和線圈系統配置成平行于所述Y軸線將力僅施加至所述承載裝置而不借助于所述穿梭件,所述穿梭件連接器驅動器和穿梭件連接器配置成供給由所述驅動系統施加至所述承載裝置的力的所述X分量的全部。
7.根據權利要求4、5或6所述的光刻設備,還包括:
穿梭件驅動器,用于平行于所述Y軸線驅動所述穿梭件的移動,其中:
所述穿梭件驅動器配置成供給由所述驅動系統施加至所述承載裝置的力的所述Y分量的至少10%。
8.根據權利要求1至3和7中任一項所述的光刻設備,其中所述穿梭件驅動器包括下述中的一個或更多個:線性電機、管狀電磁致動器、液壓致動器、滾珠絲杠驅動裝置。
9.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備,還包括在所述承載裝置和所述穿梭件連接器之間的主動式耦接裝置,所述主動式耦接裝置包括:
傳感器,用于測量所述承載裝置相對于參考框架的位置;
致動器,用于在所述承載裝置和所述穿梭件連接器之間施加力,用于調節所述承載裝置相對于所述穿梭件連接器的位置;和
控制器,用于控制所述致動器的操作作為來自所述傳感器的輸出的函數,以便控制所述承載裝置相對于所述參考框架的位置。
10.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備,其中所述穿梭件連接器包括活節連接的臂,所述臂包括布置成圍繞垂直于所述X軸線和Y軸線的軸線相對彼此地樞轉的至少兩個構件,所述構件中的第一個能夠在第一樞軸位置處樞轉地連接至所述承載裝置,所述構件中的第二個能夠在第二樞轉位置處樞轉地連接至所述穿梭件。
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