[發(fā)明專利]一種方法和用于執(zhí)行該方法的觸摸檢測裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110426635.4 | 申請日: | 2011-12-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102609154A | 公開(公告)日: | 2012-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 約珥·C·肯特 | 申請(專利權(quán))人: | 泰科電子公司 |
| 主分類號(hào): | G06F3/043 | 分類號(hào): | G06F3/043 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 孫紀(jì)泉 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 方法 用于 執(zhí)行 觸摸 檢測 裝置 | ||
1.一種用于減少在物體中傳播的彎曲波的檢測信號(hào)中的噪聲的方法,包括下述步驟:
a)接收表示所述物體的多個(gè)位置的檢測信號(hào),以及
b)將滿足彎曲波傳播特性的函數(shù)與所述檢測信號(hào)擬合,從而降低不滿足彎曲波傳播特性的噪聲對檢測信號(hào)的影響。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述物體是厚度小于彎曲波波長的均勻板,并且步驟b)包括將滿足亥姆霍茲方程的函數(shù)與所述檢測信號(hào)擬合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中步驟b)中使用的所述函數(shù)為貝塞爾函數(shù)或貝塞爾函數(shù)的高達(dá)n階的展開式。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中擬合函數(shù)還滿足下述彎曲波頻散關(guān)系,
其中ω為在所述物體中傳播的彎曲波的角頻率,E,υ和ρ分別表示所述物體的彈性模量、泊松比和密度,并且h為所述物體的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中擬合函數(shù)還包括彎曲波衰減成分。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中基于對應(yīng)于所述物體上的給定位置的所述檢測信號(hào)和已經(jīng)為其接收到檢測信號(hào)的鄰近的位置的預(yù)定數(shù)量,為所述給定位置執(zhí)行擬合。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中從柵格的節(jié)點(diǎn)位置接收所述檢測信號(hào),并且對于每個(gè)位置,為子?xùn)鸥?,特別是3×3、5×5或7×7子?xùn)鸥駡?zhí)行擬合步驟,所述子?xùn)鸥竦闹行臑闉槠鋱?zhí)行擬合的位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,包括:
采用位于所述物體上的第一換能器位置的換能器,特別是壓電換能器在所述物體中提供彎曲波的步驟c1),其中
步驟a)包括檢測所述物體上的與第一位置不同的位置處的信號(hào),并且其中檢測信號(hào)表示至少一個(gè)第二位置處的彎曲波參數(shù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中步驟a)包括采用振動(dòng)計(jì),特別是非接觸式激光干涉儀或原子力顯微鏡檢測所述信號(hào)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中重復(fù)步驟c1)、a)和b),用于提供具有位于預(yù)定頻率范圍內(nèi)的不同頻率的多個(gè)彎曲波,并為所述彎曲波中的每一個(gè)檢測信號(hào)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中步驟c1包括將具有角頻率ω的連續(xù)振蕩電壓提供至所述換能器。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,包括:
在所述物體的位置處提供預(yù)定觸摸活動(dòng)的步驟c2),并且
步驟a)包括采用位于所述物體的與所述物體的所述多個(gè)位置不同的第一位置處的換能器,特別是壓電換能器檢測所述信號(hào)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中在進(jìn)行步驟b)之前,針對所述物體的多個(gè)位置重復(fù)步驟c2)和a)。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中所述換能器定位在所述物體的感興趣的區(qū)域的外側(cè),特別是定位在所述物體的觸敏交互作用表面的外側(cè)。
15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,還包括在步驟b)之后,由擬合的值代替所述檢測信號(hào)的步驟d),以及針對所述物體的已經(jīng)在步驟b)中相對于第一換能器位置為其建立擬合值的每個(gè)位置確定聲傳遞函數(shù)的步驟e)。
16.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,包括針對放置在所述物體的不同位置處的多個(gè)換能器重復(fù)步驟c1)或c2)以及步驟a)和步驟b)。
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