[發明專利]一種反應腔室以及應用該反應腔室的等離子體加工設備

有效

• 申請號: 201110424577.1
• 申請日: 2011-12-14
• 公開（公告）號: CN103160813A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 王一帆
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種反應腔室，包括外腔室、內腔室以及氣體輸送管，所述內腔室設置在所述外腔室內，且在所述內腔室和所述外腔室之間形成有氣體通道，所述氣體通道與外腔室的排氣通道連通，所述氣體輸送管設置在所述內腔室內，在所述氣體輸送管上設有向所述內腔室輸送工藝氣體的進氣口，在所述內腔室的室壁上設有排氣口，其特征在于，在所述排氣口位置設有用于調節所述排氣口大小的排氣口調節單元。

2.根據權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述排氣口調節單元包括遮擋板和驅動裝置，所述遮擋板緊貼所述內腔室的室壁設置且位于所述排氣口位置，所述驅動裝置驅動所述遮擋板移動，以調節所述遮擋板遮擋所述排氣口的大小。

3.根據權利要求2所述的反應腔室，其特征在于，所述內腔室為圓筒形結構，所述遮擋板為圓環，所述驅動裝置為直線電機，所述直線電機驅動所述遮擋板在所述內腔室的軸向方向上運動。

4.根據權利要求2所述的反應腔室，其特征在于，所述內腔室為圓筒形結構，所述遮擋板為圓環，在所述遮擋板上設有與所述排氣口尺寸相同的通孔，所述驅動裝置為旋轉電機，所述旋轉電機驅動所述遮擋板繞所述內腔室的中心轉動，從而調節所述通孔與所述排氣口的重合度。

5.根據權利要求3或4所述的反應腔室，其特征在于，在所述內腔室的軸向方向上設有多排所述排氣口，而且遮擋板的數量與所述排氣口的排數對應，多個所述遮擋板通過連接板連接在一起，所述驅動裝置驅動所述多個遮擋板移動。

6.根據權利要求2所述的反應腔室，其特征在于，所述遮擋板的厚度為1～2mm。

7.根據權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，在所述內腔室內設有多個用于承載被加工工件的托盤，多個所述托盤在所述氣體輸送管的長度方向間隔設置且與所述氣體輸送管垂直，在所述氣體輸送管上設有與所述托盤數量對應的進氣口，在所述內腔室的室壁上設有與所述托盤數量對應的排氣口。

8.根據權利要求7所述的反應腔室，其特征在于，在所述內腔室的軸向方向上，所述進氣口高于所述托盤的上表面，所述排氣口低于所述托盤的下表面。

9.根據權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，在所述外腔室的外側設有用于加熱所述外腔室內部的感應線圈，所述感應線圈與交流電源連接。

10.一種等離子體加工設備，其包括反應腔室、中央進氣系統及排氣系統，其特征在于，所述反應腔室采用權利要求1-9中任意一項所述的反應腔室，所述中央進氣系統與所述氣體輸送管連接，所述排氣系統與所述外腔室的排氣口連接。