[發明專利]包含疏水性介孔物質的有機藥物用吸附劑

無效

• 申請號: 201110420991.5
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN102580681A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 崔喜喆;春松裴
• 申請（專利權）人: 光州科學技術院
• 主分類號: B01J20/22
• 分類號: B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30;C02F1/28;C02F1/58
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理事務所(普通合伙) 11270
• 代理人: 蔣雅潔;孟桂超

技術領域

本發明涉及一種包含疏水性介孔物質的有機藥物用吸附劑，更詳細地涉及包含疏水性介孔物質的有機藥物用吸附劑，該疏水性介孔物質十分有用于去除作為源于水性環境的微污染物(micropollutants)的有害藥物。

背景技術

過去的幾年，陸續報告關于傳遞藥物的介孔二氧化硅的研究結果。于1992年，最初報告具有帶有規則性的氣孔的整列的介孔二氧化硅以后，關于有關該介孔二氧化硅的合成、分析及應用的研究火熱開展。具有整列的氣孔結構、大的表面積及氣孔體積的納米粒子非常適合于藥物、酶、DNA等的傳遞等生物領域，能夠應用于生物領域的納米粒子用于診斷、成像及治療，尤其是，介孔二氧化硅不含毒性，并具有適當的氣孔大小，表面積寬，在氣孔表面上充分結合有Si-OH鍵，因此適合作為藥物傳遞介質。中空的介孔二氧化硅芯和介孔殼相比傳統的介孔二氧化硅殼更適合于藥物傳遞。而且，這些具有優良的藥物釋放特性，由于該體系能夠攝取或注入，因而能夠廣泛利用于藥物傳遞。因此，介孔二氧化硅納米粒子用作發光、磁力、細胞顯示及治療功能等多功能性結構。

并且，介孔二氧化硅具有2至50納米，優選為2至10納米大小的氣孔，由此也可以用作由分散在有機高分子內的有機-無機復合體形成的半導體用絕緣膜。

并且，因如上所述的介孔二氧化硅的性質而起到去除最近成為重要環境焦點的有害藥物的微污染物的吸附劑作用，目前該作用也備受著矚目。一般來講，藥物直接釋放到環境中，或者通過下水處理設施間接釋放到環境中。這是因為藥物目前還不能從下水處理設施中完全被去除。藥物在水性環境中以最大為10μg/L^-1的濃度存在，在特殊情況(例如，從藥物制造公司或者工廠中，下水放流)下，濃度為100μg/L^-1。在水性環境中，藥物殘渣可能給包括人的微生物、魚及水中棲息的有機體帶來毒性。并且，抗生物質的藥物可能引起抗生物質的耐性或者更嚴重的現象。活性炭是用于去除許多藥物的有效的吸附劑。然而，為了有效地去除藥物，需要選擇性地使用吸附劑。

在上述介孔二氧化硅中，SBA-15最初在1998年被合成，最常用的合成方法有兩種，這是因為上述合成方法十分簡單而能夠容易再現，所以備受關注，具有大的氣孔大小(～8nm)的SBA-15在催化劑或吸附劑的合成中用作主劑。然而，上述SBA-15當作吸附劑時，不能對污染物質，尤其是有機污染物呈現出高活性。

因此，如上所述，介孔二氧化硅應用于多種領域，通過發揮介孔二氧化硅的特性，不斷要求開發出多種用途。

發明內容

本發明是為了解決如上所述的問題而提出的，提供在介孔二氧化硅中對SBA-15的表面進行改性來有效去除有害藥物的吸附劑。

為了解決上述問題，本發明的目的在于，提供一種包含經過三甲基硅烷基化的SBA-15的有機藥物用吸附劑。

根據本發明的實施例，經過三甲基硅烷基化的上述SBA-15具有表面積為500-600m²/g，氣孔體積為0.7-0.9cm³/g，氣孔大小為6-8nm的定型化的結構。

根據本發明的實施例，對經過三甲基硅烷基化的上述SBA-15進行三甲基硅烷基化，以使其具有疏水性，對有機污染物呈現高活性，由此能夠去除有害的有機藥物。

根據本發明的再一個實施例，包括如下步驟：

步驟(1)，在酸性溶液中準備聚醚P123與四乙基原硅酸鹽的混合溶液；

步驟(2)，將上述混合溶液在25-40℃下維持10-30小時，還在80-120℃下攪拌20-30小時；

步驟(3)，用去離子水清洗在上述步驟(2)中獲得的混合溶液，在400-600℃下，對其進行4-8小時煅燒化來獲得SBA-15；

步驟(4)，在真空狀態下，于170-210℃，對上述SBA-15進行10-14小時預處理；

步驟(5)，在經過預處理的上述SBA-15中添加無水的甲苯之后，進行20分鐘至1小時漿體化來制備漿體液；以及

步驟(6)，對經過三甲基硅烷基化的上述SBA-15進行過濾，上述三甲基硅烷基化的SBA-15是在氮氣氛下，將六甲基二硅氮烷添加到上述漿體液之后，于25-30℃，攪拌20-30小時而獲得的。

經過三甲基硅烷基化的上述SBA-15的制備方法，還包括步驟(7)，用甲苯、乙醇及丙酮連續清洗經過三甲基硅烷基化的上述SBA-15之后，在真空狀態下，于80-120℃，干燥10-15小時。