[發(fā)明專利]CVD工藝的尾氣凈化裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110413957.5 | 申請日： | 2011-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN103157359A | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳嘯;馮金良;梁浩;胡錫峰 | 申請（專利權(quán)）人： | 無錫華潤華晶微電子有限公司 |
| 主分類號： | B01D53/76 | 分類號： | B01D53/76;B01D53/75;B01D53/18;B01D47/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 臧霽晨;高為 |
| 地址： | 214028 江蘇省無錫市國*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | cvd 工藝 尾氣 凈化 裝置 | ||
1.一種CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，具備：
高溫反應(yīng)桶（100），通入CVD工藝的尾氣，使所述尾氣與空氣中的氧氣發(fā)生氧化反應(yīng)；
冷卻吸收塔（200），通入從所述高溫反應(yīng)桶排出的氣體，用通入的冷卻過濾液冷卻通入的氣體、過濾顆粒；
凈化吸附塔（300），利用通入的冷卻過濾液和空心球?qū)乃隼鋮s吸收塔（200）排出的氣體進(jìn)行凈化、吸附顆粒；
蓄液槽（400），積存提供給所述冷卻吸收塔（200）和凈化吸附塔（300）的冷卻過濾液；以及
泵（500），將所述蓄液槽（400）中的所述冷卻過濾液抽至所述冷卻吸收塔（200）和所述凈化吸附塔（300）。
2.如權(quán)利要求1所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述空心球是多面體空心球。
3.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述冷卻吸收塔（200）具備多個噴灑冷卻過濾液的噴嘴，
所述噴嘴在高度方向上構(gòu)成為多級的冷卻過濾液簾。
4.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述冷卻過濾液為水或堿性液體。
5.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
在所述凈化吸附塔（300）中填充滿所述多面體空心球。
6.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述高溫反應(yīng)桶（100）的反應(yīng)溫度在800～1000攝氏度。
7.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述多面體空心球由多個半扇形葉片組成。
8.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述半扇形葉片相互間錯開排列。
9.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
利用被所述冷卻過濾液潤濕的多面體空心球凈化、吸附顆粒。
10.如權(quán)利要求2所述的CVD工藝的尾氣凈化裝置，其特征在于，
所述高溫反應(yīng)桶（100）中設(shè)置多條加熱絲。
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