[發明專利]聚焦環、聚焦環組合、IMP濺射設備無效
| 申請號： | 201110403786.8 | 申請日： | 2011-12-07 |
| 公開（公告）號： | CN102418076A | 公開（公告）日： | 2012-04-18 |
| 發明（設計）人： | 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學澤;汪濤 | 申請（專利權）人： | 寧波江豐電子材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 駱蘇華 |
| 地址： | 315400 浙江省寧波市余姚*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚焦 組合 imp 濺射 設備 | ||
1.一種聚焦環組合，其特征在于，包括：
聚焦環，所述聚焦環上有通孔，且其內表面在通孔處形成有凹槽；
安裝釘，所述安裝釘包括柱體與膨大的背部，所述背部貼附在所述聚焦環的內表面，所述柱體通過所述通孔延伸出所述聚焦環的外表面，所述背部嵌入所述凹槽，所述柱體的內部設有螺紋孔。
2.如權利要求1所述的聚焦環組合，其特征在于，所述安裝釘和聚焦環的材料相同。
3.如權利要求1所述的聚焦環組合，其特征在于，所述安裝釘的背部厚度大于1.53mm。
4.如權利要求3所述的聚焦環組合，其特征在于，所述安裝釘的背部嵌入凹槽的深度超過1.53mm。
5.如權利要求1所述的聚焦環組合，其特征在于還包括螺桿，所述螺桿進入所述螺紋孔內。
6.一種聚焦環，其特征在于，
所述聚焦環上有通孔，且其內表面在通孔處形成有凹槽。
7.一種IMP濺射設備，其特征在于，包括：
反應腔；
聚焦環，所述聚焦環上有通孔，且其內表面在通孔處形成有凹槽；
安裝釘，所述安裝釘包括柱體與膨大的背部，所述背部貼附在所述聚焦環的內表面，所述柱體通過所述通孔延伸出所述聚焦環的外表面，所述背部嵌入所述凹槽，所述柱體的內部設有螺紋孔；
螺桿，所述螺桿從反應腔的腔壁穿出進入所述螺紋孔。
8.如權利要求7所述的IMP濺射設備，其特征在于，所述安裝釘和聚焦環的材料相同。
9.如權利要求7所述的IMP濺射設備，其特征在于，所述安裝釘的背部大于1.53mm。
10.如權利要求9所述的IMP濺射設備，其特征在于，所述安裝釘的背部大于2.53mm。
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