[發(fā)明專(zhuān)利]一種OTPM燒寫(xiě)方法及裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110399148.3
• 申請(qǐng)日: 2011-12-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103136017A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇秋偉;李建華
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 信利光電（汕尾）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06F9/445
• 分類(lèi)號(hào): G06F9/445
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長(zhǎng)明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及微型攝像模組應(yīng)用領(lǐng)域，尤其涉及一種OTPM燒寫(xiě)方法及裝置。

背景技術(shù)

一次性可編程存儲(chǔ)器(OTPM)，是指這段存儲(chǔ)器空間只允許寫(xiě)入一次，不允許擦除。OTPM產(chǎn)生的初衷主要是用于鏡頭校正LSC，即解決特定的鏡頭、紅外線濾光片IR組合后所引起的亮度及色彩不均勻的問(wèn)題。針對(duì)一個(gè)鏡頭組合，把與其最為匹配的參數(shù)寫(xiě)到OTPM里面，待攝像模組工作時(shí)，通過(guò)相關(guān)指令，調(diào)用OTPM里面的參數(shù)來(lái)改善LSC問(wèn)題。

隨著市場(chǎng)上微型攝像模組應(yīng)用的普及，人們對(duì)其要求不僅僅局限于像素的多少，良好的影像效果將成為客戶(hù)參考的一個(gè)重要技術(shù)指標(biāo)，這無(wú)疑對(duì)效果優(yōu)化提出更嚴(yán)格的要求。然而，在實(shí)際的設(shè)計(jì)方案中，特別是采用高像素芯片，往往會(huì)出現(xiàn)模組一致性不好的問(wèn)題，即，使用同一套參數(shù)設(shè)置很難使所有的模組都達(dá)到滿意的效果，所采用的解決方法為，為每一個(gè)模組都配置一套專(zhuān)用的LSC參數(shù)。

在當(dāng)前的應(yīng)用中，有兩種解決方案：一種是采用EEPROM方案，但這種方案需要獨(dú)立配置EEPROM芯片，這對(duì)攝像模組的空間和外觀設(shè)計(jì)有一定的要求，必須顯著更改原理設(shè)計(jì)、元件布局等，此外，由于是單獨(dú)配置的芯片，物料需要增加額外預(yù)算；另一種是OTPM方案，采用OTPM不需要更改原理設(shè)計(jì)，只需要多引出一個(gè)pin即可，而且OTPM是集成在感光芯片之上，因此對(duì)于攝像模組空間和外觀設(shè)計(jì)沒(méi)有影響，此外，由于OTPM內(nèi)置于感光芯片上，所以不需要額外成本預(yù)算，節(jié)約了成本。OTPM方案與EEPROM方案相比，憑著顯著的價(jià)格優(yōu)勢(shì)將得到越來(lái)越多的應(yīng)用。然而，由于OTPM產(chǎn)生的初衷是為了做LSC，因此，傳統(tǒng)的燒寫(xiě)方法以O(shè)TPM的區(qū)ZONE為單位進(jìn)行數(shù)據(jù)的燒寫(xiě)，每個(gè)區(qū)燒寫(xiě)一套LSC參數(shù)，即傳統(tǒng)的燒寫(xiě)方法只能單一地進(jìn)行整個(gè)區(qū)域ZONE的燒寫(xiě)，這使得終端應(yīng)用和方案設(shè)計(jì)受到了嚴(yán)重的限制。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種OTPM燒寫(xiě)方法及裝置，用以解決傳統(tǒng)的燒寫(xiě)方法只能單一地進(jìn)行整個(gè)區(qū)域的燒寫(xiě)，從而使得終端應(yīng)用和方案設(shè)計(jì)的多樣化受到嚴(yán)重限制的問(wèn)題，其技術(shù)方案如下：

一種一次性可編程存儲(chǔ)器OTPM燒寫(xiě)方法，所述OTPM分為多個(gè)區(qū)，每個(gè)區(qū)有多個(gè)寄存器，該方法包括：

A：初始化感光芯片；

B：判斷需要進(jìn)行燒寫(xiě)的區(qū)域是否為空，如果是，則執(zhí)行步驟C；如果否，則退出燒寫(xiě)流程；

C：指定燒寫(xiě)的寄存器地址；

D：?jiǎn)?dòng)燒寫(xiě)指令，將要燒寫(xiě)的數(shù)據(jù)燒寫(xiě)到OTPM中指定寄存器地址的寄存器中；

E：判斷燒寫(xiě)是否成功，如果是，則結(jié)束燒寫(xiě)流程；如果否，則返回步驟A，重新燒寫(xiě)。

其中，所述要燒寫(xiě)的數(shù)據(jù)為鏡頭校正LSC參數(shù)或客戶(hù)指定數(shù)據(jù)。

其中，獲取LSC參數(shù)的過(guò)程為：用RAW的數(shù)據(jù)格式輸出影像，然后蓋上對(duì)應(yīng)色溫的均勻平板光源，并啟動(dòng)自動(dòng)校正功能生成對(duì)應(yīng)的LSC參數(shù)。其中，所述判斷燒寫(xiě)是否成功具體為：采用YUV數(shù)據(jù)格式點(diǎn)亮模組，然后啟用已經(jīng)燒寫(xiě)的LSC參數(shù)，判斷模組的LSC參數(shù)效果是否符合標(biāo)準(zhǔn)，如果是，則燒寫(xiě)成功；如果否，則燒寫(xiě)失敗。

一種OTPM燒寫(xiě)裝置，所述裝置包括：

初始化單元，用于對(duì)感光芯片進(jìn)行初始化；

第一判斷單元，用于判斷需要進(jìn)行燒寫(xiě)的區(qū)域是否為空；

地址設(shè)定單元，用于設(shè)定寄存器的地址；

燒寫(xiě)單元，用于將要燒寫(xiě)的數(shù)據(jù)寫(xiě)入OTPM中指定地址的寄存器中；

第二判斷單元，用于判斷燒寫(xiě)是否成功。

所述裝置還包括獲取單元，用于獲取要燒寫(xiě)的LSC參數(shù)。

本發(fā)明提供的OTPM燒寫(xiě)方法，可以指定任意燒寫(xiě)區(qū)域的任意地址，因此解決了現(xiàn)有的燒寫(xiě)方法只能針對(duì)一個(gè)完整的數(shù)據(jù)區(qū)域進(jìn)行燒寫(xiě)，而無(wú)法細(xì)化定位到目標(biāo)地址，燒寫(xiě)范圍太大的問(wèn)題。此外，本發(fā)明提供的燒寫(xiě)方法還可根據(jù)需要指定燒寫(xiě)的數(shù)據(jù)，從而解決了現(xiàn)有的燒寫(xiě)方法無(wú)法人為指定燒寫(xiě)數(shù)據(jù)的問(wèn)題，本發(fā)明提供的燒寫(xiě)方法為終端應(yīng)用提供了更加有彈性和人性化地設(shè)計(jì)方案。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的OTPM燒寫(xiě)方法流程圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例二提供的OTPM燒寫(xiě)裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一