[發明專利]液晶顯示裝置的基板、液晶顯示裝置及其制造方法無效
| 申請號： | 201110396315.9 | 申請日： | 2011-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN102402071A | 公開（公告）日： | 2012-04-04 |
| 發明（設計）人： | 吳鴻杰;施翔尹;詹政川;廖炳杰 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240 | 代理人： | 邢濤;田夏 |
| 地址： | 518000 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液晶 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板上在需要涂布配向液的區域的邊界設置有用于阻擋配向液擴散的凸臺或凹槽。
2.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板為陣列基板，所述陣列基板包括形成在其表面的像素電極層，所述凸臺形成于所述像素電極層上。
3.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板為陣列基板，所述陣列基板包括形成在其表面的鈍化膜，所述凸臺形成于所述鈍化膜上。
4.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述凸臺的高度大于所述配向液的厚度。
5.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板為陣列基板，所述陣列基板包括形成在其表面的像素電極層，所述凹槽形成于所述像素電極層上表面。
6.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板為陣列基板，所述陣列基板包括形成在其表面的鈍化膜，所述凹槽形成于所述鈍化膜上。
7.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括形成在其表面的黑矩陣，所述凹槽形成于所述黑矩陣的上表面。
8.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述基板為彩膜基板，所述凸臺由排布在所述配向液涂布邊界的間隙粒子形成。
9.如權利要求1所述的一種液晶顯示裝置的基板，其特征在于，所述凸臺為設置在所述彩膜基板或陣列基板上需要涂覆配向液的邊界的膠體。
10.一種液晶顯示裝置，包括如權利要求1-9任一所述的用于液晶顯示裝置的基板。
11.一種液晶顯示裝置的制造方法，包括步驟：
A：在基板上需要涂布配向液的區域的邊界形成凸臺或凹槽，
B：進行配向液的涂布。
12.如權利要求11所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述步驟A中，所述基板為液晶顯示裝置的陣列基板，所述凸臺形成在所述陣列基板的像素電極層上。
13.如權利要求11所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述步驟A中，所述基板為陣列基板，所述陣列基板包括形成在其表面的鈍化膜，所述凸臺形成于所述鈍化膜上。
14.如權利要求11所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述步驟A中，所述基板為彩膜基板，所述凸臺由排布在所述配向液涂布邊界的間隙粒子形成。
15.如權利要求11所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述步驟A中，所述基板為陣列基板，所述陣列基板包括形成在其表面的像素電極層，所述凹槽形成于所述像素電極層上表面。
16.如權利要求11所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述步驟A中，所述基板為液晶顯示裝置的彩膜基板，所述凹槽是在所述彩膜基板的黑矩陣層表面形成。
17.如權利要求16所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述凹槽通過曝光機光刻形成。
18.如權利要求11所述的一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述步驟A中，所述凸臺為涂布在所述基板上需要涂覆配向液的邊界的膠體。
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