[發明專利]一種水分散型低聚硅氧烷膏體及其制備方法

有效

• 申請號: 201110392400.8
• 申請日: 2011-12-01
• 公開（公告）號: CN102676058A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 程思聰
• 申請（專利權）人: 泉州市思康新材料發展有限公司
• 主分類號: C09D183/08
• 分類號: C09D183/08;C09D7/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：包括如下組分，鏈烷基硅氧烷低聚物、粘度5～1000cps功能氨基聚硅氧烷、滲透劑、乳化劑和去離子水，其各組分的質量百分比為：

鏈烷基硅氧烷低聚物???????30.0–80.0%

功能氨基聚硅氧烷???????????5.0–30.0%

滲透劑????????????????????0.5–5.0%

乳化劑????????????????????0.5–2.0%

去離子水??????????????????20.0–60.0%。

2.根據權利要求1所述的一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：鏈烷基硅氧烷低聚物的通式為Ⅰ，其中R可以為鏈烷基，鏈烷基的碳數為C₁～C₁₈；R₁為甲基、乙基；?2≤n≤10的正整數，?

。

3.根據權利要求2所述的一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：碳數為C₁～C₁₈的鏈烷基硅氧烷低聚物，具體地為：甲基三乙氧基硅氧烷低聚物或甲基三甲氧基硅氧烷低聚物、乙基三乙氧基硅氧烷低聚物或乙基三甲氧基硅氧烷低聚物、丙基三乙氧基硅氧烷低聚物或丙基三甲氧基硅氧烷低聚物、異丁基三乙氧基硅氧烷低聚物或異丁基三甲氧基硅氧烷低聚物、苯基三乙氧基硅氧烷低聚物或苯基三甲氧基硅氧烷低聚物、辛基三乙氧基硅氧烷低聚物或辛基三甲氧基硅氧烷低聚物、辛基甲基二甲氧基硅氧烷低聚物或辛基甲基二乙氧基硅氧烷低聚物、癸基三乙氧基硅氧烷低聚物或癸基三甲氧基硅氧烷低聚物、十二烷基三乙氧基硅氧烷低聚物或十二烷基三甲氧基硅氧烷低聚物、十六烷基三乙氧基硅氧烷低聚物或十六烷基三甲氧基硅氧烷低聚物、戊基三乙氧基硅氧烷低聚物、十八烷基三乙氧基硅氧烷低聚物或十八烷基三甲氧基硅氧烷低聚物；R₁為甲基、乙基；?2≤n≤10的正整數。

4.根據權利要求1所述的一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：功能氨基聚硅氧烷選自碳數為C₁～C₄的鏈烷基與氨基硅氧烷復合的聚硅氧烷，其通式為Ⅱ,?其中R₂、R₃、R₄可以為C₁～C₄的鏈烷基，也可以為甲氧基、乙氧基；R₂為-NH₂、-NHCH₂CH₂NH₂、；?m/p為1:1～10:1，2≤m≤30的正整數，2≤p≤30的正整數，

。

5.根據權利要求4所述的一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：碳數為C₁～C₄的鏈烷基與氨基硅氧烷復合的聚硅氧烷，具體地為：氨丙基聚甲基硅氧烷、胺乙基胺丙基聚甲基硅氧烷、苯胺甲基聚甲基硅氧烷、苯胺甲基聚乙基硅氧烷、苯胺甲基聚丙基硅氧烷、苯胺甲基聚丁基硅氧烷。

6.根據權利要求1所述的一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：滲透劑為磺化琥珀酸二辛酯鈉鹽快速滲透劑T。

7.根據權利要求1所述的一種水分散型低聚硅氧烷膏體，其特征在于：乳化劑為OP系列表面活性劑、Tween系列表面活性劑、Span系列表面活性劑、平平加O系列分散劑、MOA系列分散劑、磺酸鹽系列表面活性劑以及有機硅系列表面活性劑的一種或一種以上混合的復合體系。