[發明專利]一種新型勻氣結構

有效

• 申請號: 201110387800.X
• 申請日: 2011-11-29
• 公開（公告）號: CN102424955A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發明（設計）人: 李楠;席峰;李勇滔;張慶釗;夏洋
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01J37/305;H01J37/317;H01J37/32
• 代理公司: 北京市德權律師事務所 11302
• 代理人: 劉麗君

1.一種新型勻氣結構，所述勻氣結構設置在真空腔室的進氣管的下方，其特征在于：所述勻氣結構包括勻氣筒，所述勻氣筒采用中心同軸且相互旋轉的內勻氣筒和外勻氣筒的雙層圓筒狀結構，所述勻氣筒的底部為封閉的；所述內勻氣筒和所述外勻氣筒上設有勻氣孔。

2.如權利要求1所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述外勻氣筒的高度為1～200mm，直徑為1～100mm，壁厚為1～10mm，所述外勻氣筒側壁上的勻氣孔的直徑為0.1～10mm。

3.如權利要求1所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述內勻氣筒的高度為1～200mm，直徑為1～100mm，壁厚為1～10mm，所述內勻氣筒側壁上的勻氣孔的直徑為0.1～20mm。

4.如權利要求1所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述外勻氣筒側壁上的勻氣孔的直徑小于所述內勻氣筒側壁上的勻氣孔的直徑。

5.如權利要求1所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述勻氣結構包括勻氣盤，所述勻氣盤設置在所述勻氣筒下方；所述勻氣盤采用中心同軸且相互旋轉的上勻氣盤和下勻氣盤的雙層結構；所述上勻氣盤和所述下勻氣盤上設有勻氣孔。

6.如權利要求5所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述上勻氣盤的直徑為1～5000mm，厚度為1～100mm，所述上勻氣盤上的勻氣孔在所述上勻氣盤的直徑范圍內分布，所述上勻氣盤上的勻氣孔的直徑為0.1～10mm。

7.如權利要求5所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述下勻氣盤的直徑為1～5000mm，厚度為1～100mm，所述下勻氣盤上的勻氣孔在所述下勻氣盤的直徑范圍內分布，所述下勻氣盤上的勻氣孔的直徑為0.1～20mm。

8.如權利要求5所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述下勻氣盤上的勻氣孔的直徑大于所述上勻氣盤上的勻氣孔的直徑。

9.如權利要求1所述的新型勻氣結構，其特征在于：所述勻氣筒和所述勻氣盤的材質為非金屬材料，所述非金屬材料為聚四氟、聚碳酸酯、工程塑料、石墨、陶瓷、石英、碳化硼或碳化硅。