[發明專利]鈦鋯氧化物固溶體納米線陣列紫外光探測器及其制備方法無效
| 申請號: | 201110386056.1 | 申請日: | 2011-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN102437229A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發明(設計)人: | 阮圣平;張敏;張海峰;劉彩霞;馮彩慧;周敬然;陳維友 | 申請(專利權)人: | 吉林大學 |
| 主分類號: | H01L31/108 | 分類號: | H01L31/108;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 長春吉大專利代理有限責任公司 22201 | 代理人: | 張景林;劉喜生 |
| 地址: | 130012 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化物 固溶體 納米 陣列 紫外光 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列紫外光探測器,其特征在于:依次由透明導電玻璃襯底(4)、采用低溫極性界面水解法在襯底(4)上直接生長的一維ZrxTi1-xO2納米線陣列(2)、在納米線陣列(2)上直接制備的Ag或Au金屬電極(1)構成,待探測的紫外光(3)從透明導電玻璃襯底(4)的一側入射。
2.如權利要求1所述的ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列紫外光探測器,其特征在于:透明導電玻璃襯底(4)的厚度為2~3mm,一維ZrxTi1-xO2納米線陣列(2)的厚度為1~3μm,一維ZrxTi1-xO2納米線材料中Zr與Ti的摩爾比為0.01~1∶1;金屬電極(1)的有效面積為1~5mm2,厚度為500~1000μm。
3.如權利要求1或2所述的ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列紫外光探測器的制備方法,其步驟如下:
(1)襯底的處理
首先分別用丙酮、乙醇棉球擦拭透明導電玻璃襯底,再將襯底依次置于丙酮、乙醇和去離子水中,分別超聲清洗5~8分鐘,最后用氮氣吹干;
(2)一維ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列的制備
采用低溫極性界面水解法制備一維ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列;
(3)制備Ag或Au金屬電極
將Ag漿或Au漿直接粘到一維ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列表面,引出電極引線,然后將器件至于烘箱中,在100~150℃烘干5~15分鐘,即得到帶有金屬電極的肖特基結構的ZrxTi1-xO2納米線陣列紫外光探測器。
4.如權利要求3所述的ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列紫外光探測器的制備方法中,其特征在于:步驟(2)所述的采用低溫極性界面水解法制備一維ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列,是在室溫條件下將5~20ml甲苯加入到20~40ml的聚四氟乙烯反應釜中,將1~2ml鋯酸四丁酯和鈦酸四丁酯的混合溶液加入到甲苯溶劑中,其中Zr與Ti的摩爾比為0.01∶1~1∶1,然后用注射器加入0.1~0.5ml的四氯化鈦,接著加入1~2ml濃鹽酸或醋酸水溶液,將經上述步驟處理過的透明導電玻璃襯底倒置在反應釜中,最后將反應釜置于120~200℃的反應室中密封2~8小時,從而在透明導電襯底上低溫生長出ZrxTi1-xO2納米線陣列;反應釜自然降溫3~5小時,得到結晶良好、平整、緊密的一維ZrxTi1-xO2固溶體納米線陣列,將已生長好的納米線陣列從反應釜中取出,靜置干燥后放入干燥塔中保存。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





