[發明專利]可異地加工四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造方法

無效

• 申請號: 201110381671.3
• 申請日: 2011-11-25
• 公開（公告）號: CN102501449A
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 林嘉宏
• 申請（專利權）人: 林嘉宏
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B15/00;B32B17/00
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本發明涉及建筑和車用鍍膜玻璃領域，具體是一種可異地加工四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造方法。

背景技術

四銀低輻射玻璃作為目前國內正在研發的低輻射鍍膜玻璃中的高端產品，由多達四層的銀層組成，具有較高的可見光透過率、很高的紅外線反射率，可以獲得極佳的隔熱保溫效果，另外對于紫外線的阻擋也有著很好的效果。但是現有的四銀低輻射玻璃加工中，只能對玻璃采用先鋼化再鍍膜的加工方式，導致傳統四銀低輻射玻璃不能推廣到車用玻璃上，也不能大面積推廣到民用住宅。主要因為：1)、現代建筑和汽車擋風玻璃廣泛采用彎鋼化和熱彎玻璃，而傳統離線低輻射鍍膜玻璃性能較差，不能進行彎鋼化和熱彎等后續熱加工處理，國內現有的鍍膜玻璃生產線也無法良好的實現在彎鋼化和熱彎玻璃基片上進行鍍膜；2)、傳統的加工方式效率低，通常鋼化玻璃的鍍膜裝載率只有75％左右，也就是只能發揮鍍膜線產能的75％，鋼化玻璃需要人工裝、卸片，需要配置足夠的操作工，增加了人工工資支出，同時人工裝、卸片的速度又制約了鍍膜走速。鍍膜工序各種補片數量多、生產周期長；3)、玻璃運輸成本高，因離線低輻射鍍膜玻璃必須合成中空玻璃使用，而中空玻璃的運輸增加了運輸支出，例如，6mm低輻射玻璃+12mm空氣層+6mm玻璃的中空玻璃，運輸貨物的體積是單片玻璃的兩倍，基于上述原因，開發一種可以實現異地加工的四銀低輻射鍍膜玻璃勢在必行。

發明內容

本發明的技術目的是解決現有技術中存在的問題，提供一種產品性能好，耐磨、抗腐蝕、抗氧化，在鍍膜后可異地加工的四銀低輻射鍍膜玻璃及其制造方法。

本發明的技術方案是：

一種可異地加工四銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍制在玻璃基片上的膜層，其特征在于，所述膜層自玻璃基片向外依次包括：基層電介質層、第一電介質組合層、第一阻擋保護層、第一銀層、第二阻擋保護層、第一間隔電介質組合層、第三阻擋保護層、第二銀層、第四阻擋保護層、第二間隔電介質組合層、第五阻擋保護層、第三銀層、第六阻擋保護層、第三間隔電介質組合層、第七阻擋保護層、第四銀層、第八阻擋保護層、第二電介質組合層。上述的各膜層可以是由單一材料構成或者由多個材料膜層疊加構成的復合層。

所述基層電介質層為硅基化合物，優選Si₃N₄、SiO₂、SiOxNy中的一種。

所述第一電介質組合層、第二電介質組合層、第一間隔電介質組合層、第二間隔電介質組合層、第三間隔電介質組合層由SSTOx、CrNx、CdO、MnO₂、InSbO、TxO、SnO₂、ZnO、ZnSnOx、ZnSnPbOx、ZrO₂、AZO、Si₃N₄、SiO₂、SiOxNy、BiO₂、Al₂O₃、Nb₂O₅、Ta₂O₅、In₂O₃、MoO₃材料膜層中的一種或幾種組成。

所述第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八阻擋保護層為金屬、金屬氧化物或金屬氮化物材料的膜層構成，優選Ti、NiCr、Ni、Cr、Nb、Zr、NiCrOx、NiCrNx、CrNx材料中的一種。

一種可異地加工四銀低輻射鍍膜玻璃的制造方法，采用真空磁控濺射鍍膜方式，其特征在于，包括以下步驟：

(1)、將玻璃基片清洗干燥后，將其置于真空濺射區，進行預真空過渡；

(2)、在所述玻璃基片上自下向上依次沉積形成基層電介質層、第一電介質組合層、第一阻擋保護層、第一銀層、第二阻擋保護層、第一間隔電介質組合層、第三阻擋保護層、第二層銀層、第四阻擋保護層、第二間隔電介質組合層、第五阻擋保護層、第三層銀層、第六阻擋保護層、第三間隔電介質組合層、第七阻擋保護層、第四銀層、八阻擋保護層、第二電介質組合層；

(3)、形成產品；

所述基層電介質層、第一和第二電介質組合層、第一至第三間隔層電介質組合層均采用雙旋轉陰極、中頻反應磁控濺射方式沉積；所述第一至第四銀層、第一至第八阻擋保護層均采用平面陰極、直流濺射的方式沉積。

所述雙旋轉陰極、中頻反應磁控濺射方式是在氬氧、氬氮或氬氧氮氛圍中進行；所述直流磁控濺射方式是在氬氧、氬氮或純氬氛圍中進行。