[發明專利]制造構圖延遲器的方法有效
| 申請號： | 201110378233.1 | 申請日： | 2011-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN102662247A | 公開（公告）日： | 2012-09-12 |
| 發明（設計）人： | 盧炫宗;金鎮鎬;林英男;金敬鎮 | 申請（專利權）人： | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號： | G02B27/26 | 分類號： | G02B27/26;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 李輝;張旭東 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制造 構圖 延遲 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制造構圖延遲器的方法，所述方法包括：
限定位于所述構圖延遲器中的第一延遲器區域和第二延遲器區域；
通過具有第一曝光能量的部分曝光過程在所述第一延遲器區域形成第一偏振圖案；以及
通過具有第二曝光能量的整體曝光過程在所述第二延遲器區域形成第二偏振圖案。
2.根據權利要求1所述的方法，其中，通過使用露出所述第一延遲器區域并遮擋所述第二延遲器區域的掩模，用具有所述第一曝光能量的第一偏振光曝光所述第一延遲器區域，來執行所述部分曝光過程；以及
其中，通過用具有所述第二曝光能量的第二偏振光曝光所述第一延遲區域和所述第二延遲器區域，來執行所述整體曝光過程。
3.根據權利要求1所述的方法，其中，通過使用在所述第一延遲器區域具有第一偏振圖案并在所述第二延遲器區域具有黑圖案的第一掩模，用具有所述第一曝光能量的紫外光進行曝光，來執行所述部分曝光過程；以及
其中，通過使用在所述第一延遲器區域和所述第二延遲器區域具有第二偏振圖案的第二掩模，用具有所述第二曝光能量的紫外光進行曝光，來執行所述整體曝光過程。
4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第二曝光能量為所述第一曝光能量的60％或更小。
5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第一曝光能量是1～50mJ/cm2中的一個，以及
其中，所述第二曝光能量是1～30mJ/cm2中的一個，并且小于所述第一曝光能量。
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